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胡伟
作品数:
1
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供职机构:
复旦大学现代物理研究所
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相关领域:
核科学技术
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合作作者
傅云清
复旦大学现代物理研究所
朱周侠
中国科学院上海应用物理研究所
朱希恺
中国科学院上海应用物理研究所
朱丹峰
中国科学院上海应用物理研究所
郭盘林
中国科学院上海应用物理研究所
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作者
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杜光天
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邹亚明
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郭盘林
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朱周侠
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傅云清
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胡伟
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1篇
2008
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用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验
2008年
为给上海电子束离子阱(Electron Beam Ion Traps,EBIT)装置提供低电荷离子,我们研制了小型金属蒸汽真空弧(Metal Vapor Vacuum Arc,MEVVA)离子源,可产生多种金属以及半导体材料的低电荷离子。本文介绍小型MEVVA离子源的特性及其在上海EBIT装置上的离子注入实验。实验结果显示,合理控制注入参数可以使注入并被束缚在EBIT中的离子数密度达到10^8~10^9/cm^3。
朱丹峰
杜光天
郭盘林
朱周侠
朱希恺
傅云清
胡伟
邹亚明
关键词:
离子注入
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