魏娜娜
- 作品数：2 被引量：11H指数：2
- 供职机构：北京工业大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 铜掺杂二氧化硅膜的制备及孔结构研究被引量：4
- 2010年
- 以正硅酸乙酯和硝酸铜为前驱体,通过溶胶?凝胶法制备了铜掺杂的二氧化硅膜,通过FT-IR、XPS、XRD等测试方法研究了铜元素在膜材料中的存在形态,并利用N2吸附对膜材料的孔结构进行表征,讨论了铜掺杂量以及水/正硅酸乙酯的化学计量比对膜材料孔结构的影响,最后初步研究了铜掺杂二氧化硅膜在水热环境下的孔结构稳定性.结果表明,当n(H2O):n(TEOS)=0.5:1.0时能获得微孔结构,铜掺杂后的二氧化硅膜仍然保持良好的微孔结构,当n(Cu):n(Si)=0.8:1.0时膜材料的孔容达到0.155cm3/g,孔径狭窄分布在0.5nm.铜元素除了进入二氧化硅骨架外主要以晶态Cu单质和Cu2O存在.铜掺杂的膜材料在水热环境下短期内能保持微孔结构,但长期的水热环境导致膜材料孔结构的崩溃.
- 魏娜娜韦奇李振杰李群艳聂祚仁
- 关键词：二氧化硅膜铜掺杂孔结构溶胶-凝胶法
- 苯基修饰的疏水微孔二氧化硅膜的制备与表征被引量：8
- 2010年
- 以苯基三乙氧基硅烷(PTES)和正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,通过溶胶-凝胶法制备了苯基修饰的SiO2膜材料.利用扫描电镜、N2气吸附、视频光学接触角测量仪、热重分析及红外光谱等测试手段对膜的孔结构及疏水性能进行了表征,研究了修饰后膜材料在室温条件下的单组分气体渗透和分离性能.结果表明,随着PTES加入量的增大,膜材料的疏水性逐渐增强,当PTES/TEOS和H2O/TEOS的摩尔比分别达到0.6和9.6时,膜材料对水的接触角达到115°±0.5°,仍保持良好的微孔结构,其孔体积为0.17cm3/g,孔径为0.4～0.5nm.室温下H2气在修饰后SiO2膜的输运既遵循发生在微孔孔道的表面扩散机理,又遵循发生在较大孔道或微缺陷的努森扩散机理.膜材料的H2气渗透率达到1.49×10-6mol/(m2·Pa·s),H2/CO2和H2/SF6的理想分离系数分别达到4.64和365.59.
- 李振杰韦奇魏娜娜李群艳聂祚仁
- 关键词：苯基孔结构疏水性
