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林涛

作品数：1 被引量：6H指数：1
供职机构：学研究院更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇等离子
  • 1篇等离子喷涂
  • 1篇等离子喷涂法
  • 1篇喷涂
  • 1篇喷涂法
  • 1篇离子喷涂

机构

  • 1篇华北电力大学
  • 1篇学研究院

作者

  • 1篇刘静静
  • 1篇刘宗德
  • 1篇林涛

传媒

  • 1篇材料热处理学...

年份

  • 1篇2005
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
电磁加速等离子喷涂法制备碳化硼涂层初步分析被引量：6
2005年
利用自制的电磁加速等离子喷涂装置在45钢基体上制备了碳化硼涂层,运用扫描电镜、能谱分析及X射线衍射分析对碳化硼涂层的形貌和相组成进行了定性的分析。实验结果表明:利用自制的电磁加速等离子喷涂装置成功地制备了碳化硼涂层,单次喷涂厚度在11～12μm。所制备的碳化硼涂层中除了含有碳化硼外,还含有B和C的一些其他相。
刘宗德陈蕴博刘静静林涛姜超
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共1页<1>
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