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缪存星

作品数:1 被引量:6H指数:1
供职机构:上海大学理学院物理系更多>>
发文基金:上海市教育委员会创新基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇透明导电
  • 1篇透明导电氧化...
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射压强
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇ZNO薄膜

机构

  • 1篇上海大学

作者

  • 1篇马忠权
  • 1篇栗敏
  • 1篇徐飞
  • 1篇赵占霞
  • 1篇缪存星

传媒

  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 1篇2010
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
沉积压强对Sc掺杂ZnO薄膜性能的影响被引量:6
2010年
利用射频磁控溅射方法,采用Sc2O3掺杂(质量百分比2%)ZnO为靶材在石英玻璃上制备透明导电ZnO:Sc(SZO)薄膜。用X射线衍射仪、分光光度计及霍尔测试仪等对样品进行表征,分析了沉积压强从0.3Pa到2.0Pa的变化对SZO薄膜的微结构及光学特性的影响。XRD研究结果表明所有样品都是六角密堆积结构,而且溅射压强对SZO薄膜的微结构有着显著的影响。所有SZO薄膜的透过率在可见光区域均大于85%,近紫外区域由于吸收,透射率大大降低。
缪存星赵占霞栗敏徐飞马忠权
关键词:射频磁控溅射溅射压强透明导电氧化物
共1页<1>
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