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苏志丽

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：太原师范学院化学系更多>>
发文基金：山西省普通高等本科学校大学生创新性试验项目更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇循环伏安
  • 1篇自组装
  • 1篇自组装膜
  • 1篇阻抗
  • 1篇酰胺
  • 1篇缓蚀
  • 1篇缓蚀膜
  • 1篇甲基
  • 1篇甲酰胺
  • 1篇交流阻抗
  • 1篇二甲基
  • 1篇N,N-二甲...
  • 1篇N

机构

  • 1篇太原师范学院

作者

  • 1篇王春涛
  • 1篇郭美玉
  • 1篇苏志丽

传媒

  • 1篇太原师范学院...

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
N,N-二甲基甲酰胺缓蚀膜的影响因素
2010年
在金属铜表面制备各种N,N-二甲基甲酰胺自组装膜,用交流阻抗(AC)和循环伏安(CV)研究了形成组装膜的最佳浓度,最佳组装时间,以及在不同浓度的NaCl溶液中该膜对铜电极的缓蚀行为.
郭美玉王春涛苏志丽
关键词：自组装膜
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共1页<1>
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