杨旺
- 作品数：5 被引量：33H指数：3
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：机械工程理学电子电信更多>>
- 高成像质量光学系统的元件旋转补偿被引量：3
- 2013年
- 在高成像质量的光学系统的集成制造中,受元件的面形和材料的均匀性误差的影响很难满足极限的成像质量要求,必须采用多种像质补偿措施,元件的旋转补偿是其中必要的像质补偿措施之一。提出了一种光学系统光学元件旋转补偿优化方法,该方法可以用于获取元件的最佳旋转角度。实验验证了该方法的可行性,证实了旋转补偿对系统波前像差具有较强的补偿能力。通过研究旋转补偿的机理总结出可用于评估光学系统旋转补偿能力的多边形原则,并以此作为光学材料筛选的原则之一。最后提出了一种针对球面多视场系统的旋转补偿优化方法,并得到了光学设计软件的分析验证。旋转补偿是高精密光学系统制造和集成中经济有效的像质补偿措施,对进一步提升光学系统的性能具有重大的意义。
- 刘春来黄玮尚红波许伟才杨旺
- 关键词：光学设计波前像差
- 投影光刻物镜倍率的公差分析与补偿被引量：21
- 2011年
- 为满足严格的套刻需求,双远心结构的投影光刻物镜需要选择恰当的元件移动来进行倍率的补偿和调节。提出了一种简单而实用的方法来进行倍率的公差分析。该方法利用商业优化设计软件和有限差分算法计算了多项公差对物镜倍率的敏感程度,同时结合公差对系统波像差的敏感度选择最佳的倍率补偿元件。利用以上方法,对一台双远心、工作波长193nm以及数值孔径0.75的投影光刻物镜进行了倍率的公差分析和补偿器优选。结果显示,系统较好地实现了±50×10-6的倍率调节功能,而系统波像差劣化程度均方根值小于1.5nm。
- 许伟才黄玮杨旺
- 关键词：光学设计倍率公差分析投影光刻物镜
- 光学表面中频误差对光刻物镜短程杂散光影响分析被引量：3
- 2013年
- 研究了光学表面中频误差对杂散光的影响规律,提出使用功率谱密度函数描述表面中频误差,并通过该描述方法进行杂散光分析;同时利用等效光瞳空间频率对表面中频误差进行公差分析。利用以上方法,对工作波长为193nm、数值孔径为0.75的光刻物镜进行元件表面中频公差分析,当要求在2～10μm范围内的杂散光强度占比小于0.5%时,中低频等效光瞳空间频率界限为16,中高频等效光瞳空间频率界限为78。当元件表面功率谱曲线指数取1.5时,功率谱密度系数小于0.06的元件表面满足杂散光要求。结果表明该方法可以有效分析光学系统杂散光和元件表面中频公差。
- 杨旺黄玮许伟才尚红波
- 关键词：杂散光功率谱密度公差分析光刻物镜
- 掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响被引量：1
- 2016年
- 为使光刻投影物镜满足光刻工艺的要求,研究了掩模位置误差对光刻投影物镜引入的畸变。采用勒让德多项式描述光刻投影物镜的畸变,并应用勒让德多项式对光刻投影物镜进行了畸变分析及畸变补偿。利用以上方法,对一台工作波长为193 nm,数值孔径(NA)为0.75的光刻投影物镜进行了畸变分析。结果显示:当掩模面3个方向的平移公差为1.0μm,绕3个轴的转动公差为0.1 mrad时,光刻投影物镜标定前后的畸变分别为2 113.2 nm和10.0 nm。利用勒让德多项式进行了畸变拟合,获得了多项式中各项系数,并给出掩模面位置误差的畸变敏感度系数;然后利用畸变敏感度系数对掩模面的随机位置误差进行了公差分析和补偿。结果表明,将光刻投影物镜畸变控制在2 nm以内时,掩模面z方向的位置公差为±2.0μm,掩模面与x轴与y轴的倾斜公差分别为±22.3μmad和±55.3μmad。实验结果证明提出的方法适用于对掩模面引入的光刻投影物镜畸变进行有效分析及补偿。
- 杨旺黄玮尚红波
- 关键词：光刻光学设计勒让德多项式公差分析
- 干涉仪成像畸变引起测量误差的校正方法被引量：6
- 2011年
- 根据光学系统的波像差理论和干涉检测原理,分析了干涉仪系统的成像畸变对测量结果的影响,提出了对干涉仪系统的成像畸变进行标定和校正的方法。重点讨论了被测面的摆放存在倾斜和离焦两种情况下产生的测量误差,并提出了误差校正方法。实验中对同一个被测面进行多次测量,结果显示,干涉图样为3个条纹时的面形测量结果为30.96nm PV,6.32nm RMS,10个条纹时的面形测量结果为41.25nm PV,8.22nm RMS。校正后两次测量的PV值差降低到1.42nm,RMS值差为0.4nm。实验结果表明:提出的畸变校正方法可以有效地降低测量误差,提高测量结果的复现性,为高精度面形测量提供参考。
- 刘满林杨旺许伟才
