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离子束后处理对TiO_2薄膜表面粗糙度的影响被引量：12: 2010年; 利用电子束热蒸发技术在两种不同粗糙度的K9玻璃和一批单晶硅基底上沉积了单层二氧化钛(TiO_2)薄膜,并对这些样片进行了氧离子后处理。采用泰勒-霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪(Talysurf CCI)分别对基底以及样片处理前后的表面粗糙度进行了研究,并用椭偏仪对离子处理前后的TiO_2薄膜的折射率进行了测量。实验结果表明,TiO_2薄膜对于基底具有一定的平滑作用;当基底粗糙度较大时,随着轰击离子能量的增加样片的表面粗糙度先减小后增加;当氧离子的轰击时间增加时,薄膜表面粗糙度会明显降低,随着轰击离子束流密度的增加,薄膜表面的粗糙度减小的幅度会增加。; 潘永强杭凌侠吴振森王浩浩; 关键词：二氧化钛表面粗糙度椭偏仪

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王浩浩