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王雄文

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：芜湖职业技术学院机械工程系更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇氧空位
  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇水性
  • 1篇亲水性
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射功率
  • 1篇TIO_2薄...
  • 1篇氩
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇芜湖职业技术...

作者

  • 1篇王雄文
  • 1篇胡俊前

传媒

  • 1篇宿州学院学报

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
溅射功率和氧氩比对TiO_2薄膜亲水性的影响被引量：1
2013年
用直流磁控溅射制备TiO2薄膜,分析了氧氩比和溅射功率两项制备参数对退火后形成的锐钛矿二氧化钛薄膜亲水性的影响。实验结果表明,适中的氧氩比2∶3和功率126W下制备的薄膜具有很好的亲水性。
胡俊前王雄文
关键词：直流磁控溅射氧空位亲水性溅射功率
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共1页<1>
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