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蒋耀

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：西南科技大学理学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇增透
  • 1篇增透膜
  • 1篇真空蒸镀
  • 1篇均匀性
  • 1篇厚度
  • 1篇氟化镁
  • 1篇MGF2

机构

  • 1篇西南科技大学

作者

  • 1篇温才
  • 1篇唐金龙
  • 1篇刘虹
  • 1篇寇采懿
  • 1篇蒋耀
  • 1篇令勇洲
  • 1篇李文俊

传媒

  • 1篇材料导报

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
真空蒸镀氟化镁增透膜的厚度与均匀性控制被引量：1
2012年
基于光学增透膜与真空蒸发镀膜的基本原理,从MgF2原料状态、原料蒸镀质量、蒸发源与基片间距等方面,研究了热电阻和电子束蒸镀的MgF2薄膜厚度与其均匀性的控制工艺,以制备出高效的MgF2增透膜。结果表明:对于颗粒度较小或熔点较低的原料,热电阻比电子束蒸镀更易控制,并可避免原料污染;原料实际蒸镀质量与膜厚呈较好的线性关系;实际蒸镀质量相同的多晶颗粒与粉末状原料相比,前者蒸镀膜更厚;基片置于旋转工转盘中心比其侧部区域蒸镀膜更厚、均匀性更好。最后利用旋转球面夹具的小平面源蒸发模型很好地解释了上述实验结果。
温才令勇洲李文俊刘虹寇采懿蒋耀唐金龙
关键词：真空蒸镀厚度均匀性
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共1页<1>
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