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彭博

作品数:4 被引量:2H指数:1
供职机构:西安交通大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信化学工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 2篇图像
  • 2篇图像信息
  • 2篇金刚石
  • 2篇光谱
  • 2篇光谱仪
  • 2篇刚石
  • 2篇触发模块
  • 1篇单晶金刚石
  • 1篇导体
  • 1篇钝化层
  • 1篇照明
  • 1篇照明光源
  • 1篇硼掺杂
  • 1篇迁移率
  • 1篇中心轴
  • 1篇终端
  • 1篇肖特基
  • 1篇肖特基二极管
  • 1篇金属-半导体...
  • 1篇空穴

机构

  • 4篇西安交通大学

作者

  • 4篇彭博
  • 2篇李创社
  • 2篇朱京平
  • 2篇王宏兴
  • 2篇杜炳政
  • 2篇王若铮
  • 2篇吴芮
  • 2篇马志鹏
  • 2篇郝振洪
  • 1篇李奇
  • 1篇魏强
  • 1篇樊叔维
  • 1篇魏强

传媒

  • 2篇人工晶体学报

年份

  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2019
  • 1篇2017
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
高质量硼掺杂单晶金刚石同质外延及电学性质研究被引量:1
2022年
突破高质量、高效金刚石掺杂技术是实现高性能金刚石功率电子器件的前提。本文利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法,以三甲基硼为掺杂源,制备出表面粗糙度0.35 nm,XRD(004)摇摆曲线半峰全宽28.4 arcsec,拉曼光谱半峰全宽3.05 cm^(-1)的高质量硼掺杂单晶金刚石。通过改变气体组分中硼元素的含量,实现了10^(16)~10^(20) cm^(-3)的p型金刚石可控掺杂工艺。随后,研究了硼碳比、生长温度、甲烷浓度等工艺条件对p型金刚石电学特性的影响,结果表明:在硼碳比20×10^(-6)、生长温度1100℃、甲烷浓度8%、腔压160 mbar(1 mbar=100 Pa)时p型金刚石迁移率达到207 cm^(2)/(V·s)。通过加氧生长可以提升硼掺杂金刚石结晶质量,降低杂质散射。当氧气浓度为0.8%时,样品空穴迁移率提升至614 cm^(2)/(V·s)。
王若铮闫秀良彭博彭博魏强魏强
关键词:单晶金刚石P型掺杂硼掺杂MPCVD空穴迁移率
一种利用光谱信息增强物体图像信息的采集装置
本发明公开了一种利用光谱信息增强物体图像信息的采集装置,包括视频成像单元、光谱仪以及为视频成像单元和光谱仪提供触发信号的信号触发模块;视频成像单元和光谱探测镜头的数据输出端与计算机相连;视频成像单元的几何中心轴和光谱探测...
朱京平彭博郝振洪杜炳政马志鹏吴芮李创社
文献传递
一种利用光谱信息增强物体图像信息的采集装置
本发明公开了一种利用光谱信息增强物体图像信息的采集装置,包括视频成像单元、光谱仪以及为视频成像单元和光谱仪提供触发信号的信号触发模块;视频成像单元和光谱探测镜头的数据输出端与计算机相连;视频成像单元的几何中心轴和光谱探测...
朱京平彭博郝振洪杜炳政马志鹏吴芮李创社
金刚石肖特基二极管的研究进展被引量:1
2023年
金刚石具有宽带隙(5.47 eV)、高载流子迁移率(空穴3800 cm^(2)/(V·s)、电子4500 cm^(2)/(V·s))、高热导率(22 W·cm^(-1)·K^(-1))、高临界击穿场强(>10 MV/cm),以及最优的Baliga器件品质因子,使得金刚石半导体器件在高温、高频、高功率,以及抗辐照等极端条件下有良好的应用前景。随着单晶金刚石CVD生长技术和p型掺杂的突破,以硼掺杂金刚石为主的肖特基二极管(SBD)的研究广泛展开。本文详细介绍了金刚石SBD的工作原理,探讨了高掺杂p型厚膜、低掺杂漂移区p型薄膜的生长工艺,研究了不同金属与金刚石形成欧姆接触、肖特基接触的条件,分析了横向、垂直、准垂直器件结构的制备工艺,以及不同结构对SBD正向、反向、击穿特性的影响,阐述了场板、钝化层、边缘终端等器件结构对SBD内部电场的调制作用,进而提升器件反向击穿电压,最后总结了金刚石SBD的应用前景及面临的挑战。
彭博彭博张舒淼李奇王若铮王宏兴
关键词:金刚石肖特基二极管金属-半导体接触场板钝化层
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