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王安平

作品数：1 被引量：7H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇太阳能级
  • 1篇活性剂
  • 1篇硅片
  • 1篇表面活性
  • 1篇表面活性剂
  • 1篇超声
  • 1篇超声清洗

机构

  • 1篇河北工业大学
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇李宁
  • 1篇任丽
  • 1篇褚世君
  • 1篇张兵
  • 1篇王平
  • 1篇王安平
  • 1篇李艳玲
  • 1篇罗晓英

传媒

  • 1篇半导体技术

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
太阳能级Si片清洗工艺分析被引量：7
2010年
在实验基础上对太阳能级Si片碱性清洗工艺进行了分析,指出碱性清洗液在适宜的工艺环境下,配合超声清洗和表面活性剂的使用可以获得良好的清洗效果。结果表明,表面金属浓度分别达到Cu元素小于1.3×10^(14)atoms/cm^2,Fe元素小于5×10^(13)atoms/cm^2。碱性清洗液与Si晶体发生两步化学反应,平衡后OH^-离子浓度保持稳定,是以获得稳定的清洗效果同时提高清洗液的使用效率。
任丽王平李艳玲王安平褚世君张兵李宁罗晓英
关键词：硅片表面活性剂超声清洗
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共1页<1>
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