您的位置: 专家智库 > >

陈丽

作品数:4 被引量:8H指数:1
供职机构:重庆邮电大学光电工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 3篇CMOS工艺
  • 2篇雪崩
  • 2篇雪崩光电二极...
  • 2篇响应度
  • 2篇光电
  • 2篇光电二极管
  • 2篇二极管
  • 2篇保护环
  • 1篇带宽
  • 1篇35ΜM_C...
  • 1篇3DB带宽
  • 1篇APD
  • 1篇CMO
  • 1篇CMOS
  • 1篇GE/SI
  • 1篇波导
  • 1篇N
  • 1篇S-

机构

  • 4篇重庆邮电大学

作者

  • 4篇王冠宇
  • 4篇王巍
  • 4篇陈丽
  • 2篇王振
  • 2篇王婷
  • 2篇陈婷
  • 2篇徐媛媛
  • 1篇唐政维
  • 1篇王明耀
  • 1篇黄义

传媒

  • 2篇半导体光电
  • 1篇光子学报
  • 1篇激光与红外

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2016
  • 1篇2015
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
基于0.35μm CMOS工艺的APD器件仿真分析
2015年
提出了一种基于0.35μm CMOS工艺的、具有p^+/n阱二极管结构的雪崩光电二极管(APD),器件引入了p阱保护环结构。采用silvaco软件对CMOS-APD器件的关键性能指标进行了仿真分析。仿真结果表明:p阱保护环的应用,明显降低了击穿电压下pn结边缘电场强度,避免了器件的提前击穿。CMOS APD器件的击穿电压为9.2V,工作电压下响应率为0.65A/W,最大内部量子效率达到90%以上,响应速度能够达到6.3GHz,在400~900nm波长范围内,能够得到很大的响应度。
王巍杜超雨王婷鲍孝圆陈丽王冠宇王振黄义
关键词:CMOS工艺雪崩光电二极管保护环
高探测效率CMOS单光子雪崩二极管器件被引量:6
2016年
基于标准0.35μm CMOS工艺设计了一种单光子雪崩二极管器件.采用p+n阱型二极管结构,同时引进保护环与深n阱结构以提高单光子雪崩二极管性能;研究了扩散n阱保护环宽度对雪崩击穿特性的影响;对器件的电场分布、击穿特性、光子探测效率、频率响应等特性进行了分析.仿真结果表明:所设计的单光子雪崩二极管器件结构直径为10μm,扩散n阱保护环宽度为1μm时,雪崩击穿电压为13.2 V,3 dB带宽可达1.6 GHz;过偏压为1 V、2 V时最大探测效率分别高达52%和55%;在波长500~800 nm之间器件响应度较好,波长为680 nm时单位响应度峰值高达0.45 A/W.
王巍鲍孝圆陈丽徐媛媛陈婷王冠宇
关键词:CMOS工艺保护环响应度3DB带宽
Ge/Si波导集成型APD器件的仿真分析被引量:1
2016年
设计了一种Ge/Si波导集成型雪崩光电二极管(APD)。器件采用将Si波导层置于Ge吸收层之下的结构,光经波导层进入吸收层只需一次耦合,降低了光的损耗,提高了光的吸收率和光电流。采用silvaco软件对器件的结构和性能进行仿真,结果表明:器件的雪崩击穿电压为-28V,最大内量子效率达到89%,在1.15~1.60μm范围内具有较高响应度,峰值波长位于1.31μm,单位响应度最高达0.74A/W,3dB带宽为10GHz。
王振王婷王巍杜超雨陈丽鲍孝圆王冠宇王明耀
关键词:GE/SI雪崩光电二极管
一种基于0.18μm CMOS工艺的高响应度APD被引量:1
2017年
设计了一种基于0.18μm CMOS工艺的高响应度雪崩光电二极管(APD)。该APD采用标准0.18μm CMOS工艺,设计了两个P+/N阱型pn节,形成两个雪崩区以产生雪崩倍增电流。雪崩区两侧使用STI(浅沟道隔离)结构形成保护环,有效地抑制了APD的边缘击穿;并且新增加一个深N阱结构,使载流子在扩散到衬底之前被大量吸收,屏蔽了衬底吸收载流子产生的噪声,用以提高器件的响应度。通过理论分析,确定本文所设计的CMOS-APD器件光窗口面积为10μm×10μm,并得到了器件其他的结构和工艺参数。仿真结果表明:APD工作在480 nm波长的光照时,量子效率达到最高90%以上。在加反向偏压-15 V时,雪崩增益为72,此时响应度可达到2.96 A/W,3 d B带宽为4.8 GHz。
王巍陈丽鲍孝圆陈婷徐媛媛王冠宇唐政维
关键词:响应度带宽
共1页<1>
聚类工具0