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尧莉

作品数:4 被引量:0H指数:0
供职机构:东华理工大学更多>>
发文基金:江西省自然科学基金更多>>
相关领域:文化科学理学经济管理电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 2篇文化科学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇衍射
  • 1篇正入射
  • 1篇入射
  • 1篇实验台
  • 1篇物理实验
  • 1篇斜入射
  • 1篇连接板
  • 1篇可调
  • 1篇基片
  • 1篇铰接
  • 1篇铰接板
  • 1篇光栅
  • 1篇硅基
  • 1篇掺杂
  • 1篇衬底
  • 1篇衬底温度

机构

  • 3篇东华理工大学

作者

  • 3篇尧莉
  • 2篇李群
  • 1篇何娟美
  • 1篇吕波
  • 1篇徐小华
  • 1篇方诚

传媒

  • 1篇高师理科学刊
  • 1篇东华理工大学...

年份

  • 1篇2023
  • 1篇2020
  • 1篇2014
4 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
一种物理实验用可调升降平台
本实用新型涉及物理实验相关技术领域,具体是一种物理实验用可调升降平台,所述物理实验用可调升降平台包括:底板;箱体,所述箱体安装在所述底板上;实验台,所述实验台安装在所述箱体上;铰接板,所述铰接板由相互铰接的连接板和升降板...
尧莉
光栅衍射实验中正入射与斜入射的讨论
2023年
从实验上验证了自准法在光栅衍射实验中调节光栅垂直于入射光(正入射)方法的可行性,分别从实验和理论(数值)上分析了斜入射角度的变化对衍射角测量的影响.结果表明,在斜入射角度不大的情况下由角度偏离所带来的误差并不明显,偏离角度在5°以内所引起的误差在实验允许的范围内,实验结果与理论分析完全一致.
李群方诚尧莉
关键词:衍射光栅正入射斜入射
衬底温度对掺杂硅基薄膜结构的影响
2014年
采用双离子束溅射沉积法制备的掺杂硅基Si-Si O2和Al-Si-Si O2薄膜,实验中通过改变基片温度获得不同条件下的样品。测试发现,当基片温度低于450℃时,两种薄膜的XRD谱图中并未有明显的晶态峰存在,说明薄膜中并未形成晶态结构,样品的选区电子衍射花样的TEM测试结果也证明如此;当基片温度高于450℃时,XRD谱图中才呈现出几个微弱的晶态峰,说明薄膜中可能有Si或Al的晶粒出现。样品的XPS测试结果表明,Si-Si O2薄膜在温度较低时表现为欠氧富硅的结构Si Ox(x<2),薄膜中的Si主要是以氧化物的形式存在,当基片温度高于450℃时,根据Si的XPS特征峰的硅双峰结构能够确定薄膜中的硅形成了较显著的硅的原子团簇。而对于Al-Si-Si O2薄膜,Al主要是以单质铝的形式存在,Si是以氧化物的形式存在,实验中可以通过改变靶材中铝片的面积大小,改变薄膜中的铝和硅的含量。
徐小华何娟美尧莉吕波李群
关键词:基片硅基
共1页<1>
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