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杨红
作品数:
1
被引量:1
H指数:1
供职机构:
四川大学物理科学与技术学院
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发文基金:
四川省科技厅科技支撑计划项目
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相关领域:
金属学及工艺
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合作作者
石云龙
四川大学物理科学与技术学院
刘进
四川大学
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年份
1篇
2017
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多弧离子镀沉积TiN-Cu复合膜
被引量:1
2017年
利用多弧离子镀的方法,分别在不同弧电流和沉积时间下,在不锈钢基体上沉积TiN-Cu复合膜;对薄膜表面形貌、截面形貌、相组成和硬度进行表征.结果表明,复合膜中的Cu含量、沉积条件对薄膜微观结构和硬度有重要的影响.金属Cu的加入,阻止了TiN柱状晶的生长,改变了纯TiN薄膜的择优取向.当沉积时间为2h,脉冲负偏压为200V时,Cu含量为12.96at%,复合膜硬度达到最大值为2976HV.
杨红
刘进
石云龙
关键词:
多弧离子镀
复合膜
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