刘欢
- 作品数：4 被引量：11H指数：1
- 供职机构：北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金深圳市科技计划项目更多>>
- 相关领域：自动化与计算机技术电子电信航空宇航科学技术更多>>
- 石墨烯膜光纤F-P声压传感器的机械灵敏度分析
- 2019年
- 膜片式光纤Fabry-Perot(F-P)声传感器因具有高可靠性、抗电磁干扰、小型化和质量轻等特点而成为当前光纤声传感器的研究热点,多集中于新型压敏薄膜制备与振膜结构参数设计以提升传感器灵敏度。本文针对传感器振膜的机械灵敏度,基于石墨烯膜大挠度形变特性,建模分析了预应力对薄膜压力-挠度特性的影响,并利用多层石墨烯膜制作了光纤F-P声压传感器,声压测试了该传感器在不同激发光强、石墨烯振膜直径条件下的灵敏度响应,验证了薄膜预应力释放对传感器机械灵敏度提升的作用机制。
- 刘欢李成李成宋学锋
- 关键词：石墨烯预应力
- MOEMS陀螺谐振腔的闭环调整方案研究
- 2010年
- 谐振腔是MOEMS陀螺的关键器件,由于谐振腔具有相对失调特性,所以传统的调腔是以人工方式进行的。研究并提出了一种新型的可应用于微光机电(MOEMS)陀螺谐振腔的闭环调整方案,完成了基于机器视觉和PZT控制的闭环调整系统及调腔实验,得到了预期的效果,并进行了相关的分析。
- 刘惠兰潘在友刘欢王勇
- 关键词：谐振腔陀螺微光机电系统
- ICP刻蚀硅形貌控制研究被引量：11
- 2011年
- 硅的刻蚀形貌控制是MEMS器件加工中的关键技术之一,形貌控制是硅表面刻蚀和钝化反应取得平衡的结果,任何影响刻蚀和钝化反应的因素都会影响到刻蚀形貌。采用中科院微电子研发中心研制的基于化学平衡原理的ICP-98A等离子刻蚀机,对ICP刻蚀当中影响形貌的关键工艺参数进行了研究和分析,研究了源功率RF1、射频功率RF2及气体(SF6和C4F8)比例对刻蚀形貌的影响,分析了bow ing现象产生机制,并给出了降低这种现象的工艺方法。该研究对提高硅的ICP刻蚀形貌控制具有重要的指导意义。
- 刘欢周震刘惠兰冯丽爽王坤博
- 关键词：ICP刻蚀硅形貌控制工艺参数
- 基底材料对石墨烯膜F-P声压传感器灵敏度的影响分析
- 2021年
- 文中以多层石墨烯膜为敏感膜片,分别制备了基于PDMS、SU-8、氧化锆的石墨烯膜F-P声压传感器,应用薄膜与基底之间吸附理论,分析了石墨烯膜与基底间吸附能相对于基底材料的杨氏模量成正向变化的趋势,并实验测试了所制备的声压传感器灵敏度。实验结果表明,制备的PDMS和SU-8基底具有较大的表面粗糙度,其虽降低了与石墨烯膜的吸附能,但也造成悬浮石墨烯膜的周边固支边界条件变差,且较软的基底材料易导致F-P腔体变形,从而造成灵敏度整体上未能提升。
- 李成刘欢刘欢肖习樊尚春
