孙勇毅
- 作品数:3 被引量:9H指数:2
- 供职机构:上海理工大学机械工程学院更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金更多>>
- 相关领域:金属学及工艺更多>>
- AlCrTaTiZrN_x高熵合金纳米涂层的微观组织和力学性能研究被引量:5
- 2015年
- 通过热压方法制备AlCrTaTiZr高熵合金合金靶材,采用磁控溅射方法在抛光后Si基体表面制备AlCrTaTiZrNx高熵合金涂层,并用扫描电镜、X射线衍射和纳米压痕仪等研究了靶成分、相结构及涂层的微观形貌、成分和常规力学性能。结果表明,AlCrTaTiZr高熵合金靶材为体心立方结构,AlCrTaTiZrNx高熵合金薄膜均匀致密,未通入氮气的薄膜为非晶态,通入氮气的薄膜晶体结构均为简单的面心立方结构。当氮气流量百分比为10%时,薄膜力学性能最好,其硬度和杨氏模量分别达到了22.9GPa和234.77GPa。
- 王馨汪龙李荣斌孙勇毅陈梦蝶
- 关键词:高熵合金磁控溅射非晶晶化
- 基板偏压对Al_(0.3)CrFe_(1.5)MnNi_(0.5)高熵合金氮化物薄膜性能的影响被引量:1
- 2016年
- 高熵合金氮化物薄膜性能优异,目前国内对Al0.3Cr Fe1.5Mn Ni0.5高熵合金的研究主要是对块体,对薄膜研究较少。采用直流磁控溅射技术在硅片上沉积了Al0.3Cr Fe1.5Mn Ni0.5高熵合金氮化物薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、纳米压痕仪等分析了基板偏压对薄膜的晶体结构、溅射效率、硬度和摩擦磨损性能的影响。结果表明:基板偏压为-50 V时,薄膜的晶体结构为面心立方结构(FCC),薄膜截面有明显的柱状结构;随着偏压幅值的增加,衍射峰的强度降低,晶粒尺寸减小,薄膜的溅射效率降低,硬度提高;基板偏压为-150 V时薄膜硬度最高,为13.74 GPa,此时薄膜的抗摩擦磨损性能最好。
- 李荣斌蒋春霞孙勇毅汪龙储祥伟
- 关键词:高熵合金晶体结构摩擦磨损性能
- Al_(0.3)CrFe_(1.5)MnNi_(0.5)高熵合金氮化物薄膜的微观结构及摩擦磨损性能研究被引量:4
- 2015年
- 采用反应磁控溅射法制备了Al0.3CrFe1.5MnNi0.5高熵合金氮化物薄膜,分析了不同氮气含量反应下薄膜的微观结构,并考察了薄膜的摩擦磨损性能。结果表明:溅射时氮含量(RN)为0%时,薄膜为体心立方结构,RN为10%时,氮化物镀层主相为面心立方CrN,且存在其他原子置换CrN的晶格中部分Cr原子而形成固溶体。RN达到15%时,薄膜形成非晶结构,随着RN的增大,薄膜非晶化趋势明显。RN为20%-30%时,氮气的固溶度逐渐达到饱和。高熵合金氮化物薄膜的摩擦系数较合金薄膜有明显提高,在磨耗过程中,能够有效阻止裂纹,抗摩擦磨损性能较合金薄膜均有不同程度的提高。
- 王馨孙勇毅李荣斌汪龙陈梦蝶
- 关键词:高熵合金磁控溅射微观结构