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汪涛

作品数:22 被引量:2H指数:1
供职机构:三峡大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术机械工程环境科学与工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 19篇专利
  • 2篇学位论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 2篇机械工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 6篇铸造件
  • 6篇高铬
  • 6篇淬火
  • 6篇淬火工艺
  • 4篇旋转喷雾
  • 4篇整体淬火
  • 4篇喷雾
  • 4篇喷雾装置
  • 4篇
  • 3篇袋除尘器
  • 3篇旋风除尘
  • 3篇旋风除尘器
  • 3篇排风
  • 3篇排风口
  • 3篇防火
  • 3篇布袋除尘
  • 3篇布袋除尘器
  • 3篇除尘
  • 3篇除尘器
  • 3篇除尘系统

机构

  • 22篇三峡大学

作者

  • 22篇汪涛
  • 13篇孙宜华
  • 6篇谭新玉
  • 6篇向鹏
  • 6篇肖婷
  • 6篇姜礼华
  • 3篇林高
  • 3篇李明波
  • 2篇杜义贤
  • 2篇程凯
  • 1篇田启华
  • 1篇邹红波
  • 1篇黄超
  • 1篇尹艺峰
  • 1篇周鹏

传媒

  • 1篇工程设计学报

年份

  • 1篇2023
  • 4篇2020
  • 3篇2019
  • 11篇2018
  • 3篇2017
22 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种透光性硬质氮化碳薄膜的制备方法
本发明公开了一种透光性硬质氮化碳薄膜的制备方法,该方法包括以下步骤:清洗玻璃基片;以甲烷为反应气体,采用等离子体增强化学气相沉积技术在玻璃基片表面沉积一层非晶碳薄膜;采用等离子体增强化学气相沉积技术对玻璃基片表面沉积的非...
姜礼华彭宇汪涛肖婷向鹏谭新玉
防火除尘系统
本发明提供一种防火除尘系统,包括旋风除尘器和布袋除尘器,在旋风除尘器设有喷头,喷头与喷雾装置连接,在连接旋风除尘器的进风口的风管设有传感器,所述的传感器为温度传感器和/或光电传感器,传感器与控制装置电连接,控制装置与喷雾...
孙宜华黄龙汪涛李明波林高刘东旭蒋超
一种含硅量子点多层膜及其制备方法
本发明公开了一种含硅量子点多层膜及其制备方法,以硅烷、高纯甲烷和高纯氮气为反应气体,采用等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅基片表面沉积一层氢化碳氮硅薄膜;采用等离子体增强化学气相沉积技术在所制备的氢化碳氮硅薄膜表面制备...
姜礼华汪涛彭宇肖婷向鹏孙宜华谭新玉
文献传递
机械产品开发任务与资源分配优化策略研究
产品开发任务执行过程中的任务分配不合理和资源分配不合理是导致产品开发周期过长的两个主要原因。本文以机械产品开发任务执行过程中的任务分配策略和资源分配策略作为研究对象,对任务分配策略和资源分配策略的优化进行了相关研究。  ...
汪涛
关键词:机械产品开发
文献传递
高铬耐磨铸铁件的旋转喷雾淬火工艺
本发明提供了高铬耐磨铸铁件的旋转喷雾淬火工艺,它包括以下步骤:第一步:将待淬火的铸造工件放置于高温炉内进行加热升温,并保温一段时间;第二步:将第一步中的高温铸造工件放置于旋转工作台上;第三步:启动旋转工作台,通过旋转工作...
孙宜华敖来远黄龙汪涛王瑞
文献传递
一种氮硅双修饰石墨烯量子点固态膜的制备方法
本发明公开了一种氮硅双修饰石墨烯量子点固态膜的制备方法。该方法以射频等离子体增强化学气相沉积技术作为石墨烯量子点固态膜生长方法,以高纯乙烯作为石墨烯量子点生长的碳源气体,以硅烷混合气和高纯氮气分别为石墨烯量子点的生长提供...
姜礼华田海燕彭宇汪涛肖婷向鹏谭新玉
文献传递
高铬耐磨铸铁件旋转喷雾淬火装置及方法
本发明提供了高铬耐磨铸铁件旋转喷雾淬火装置及方法,它包括基座,所述基座的顶部均布设置有多个转盘支撑组件,所述转盘支撑组件的顶部支撑有旋转盘装置,所述旋转盘装置与其底部的旋转动力装置相连,并驱动旋转盘装置旋转;在旋转盘装置...
孙宜华黄龙汪涛敖来远王瑞
文献传递
高铬耐磨铸铁件旋转喷雾淬火装置
本实用新型提供了高铬耐磨铸铁件旋转喷雾淬火装置,它包括基座,所述基座的顶部均布设置有多个转盘支撑组件,所述转盘支撑组件的顶部支撑有旋转盘装置,所述旋转盘装置与其底部的旋转动力装置相连,并驱动旋转盘装置旋转;在旋转盘装置的...
孙宜华黄龙汪涛敖来远王瑞
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一种透光性硬质氮化碳薄膜的制备方法
本发明公开了一种透光性硬质氮化碳薄膜的制备方法,该方法包括以下步骤:清洗玻璃基片;以甲烷为反应气体,采用等离子体增强化学气相沉积技术在玻璃基片表面沉积一层非晶碳薄膜;采用等离子体增强化学气相沉积技术对玻璃基片表面沉积的非...
姜礼华彭宇汪涛肖婷向鹏谭新玉
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一种含硅量子点多层膜及其制备方法
本发明公开了一种含硅量子点多层膜及其制备方法,以硅烷、高纯甲烷和高纯氮气为反应气体,采用等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅基片表面沉积一层氢化碳氮硅薄膜;采用等离子体增强化学气相沉积技术在所制备的氢化碳氮硅薄膜表面制备...
姜礼华汪涛彭宇肖婷向鹏孙宜华谭新玉
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共3页<123>
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