魏恒
- 作品数：3 被引量：6H指数：1
- 供职机构：河北工业大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家教育部博士点基金天津市自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 碱性条件下硬盘基板两步抛光法的实验研究被引量：1
- 2010年
- 在对硬盘基板CMP机理进行分析后,采用河北工业大学研制的计算机硬盘抛光专用碱性抛光液,选择氧化剂添加量、抛光压力两个重要参数分别进行实验,讨论它们在两步抛光方法中的重要作用。总结实验结果后,得出了上述两个参数在两步抛光方法中的影响规律,提出粗抛光中,应该采用较高氧化剂添加量和抛光压力以得到较高的去除速率和一定的表面质量;精抛光中,应该采用低氧化剂含量、低抛光压力以得到较完美的表面质量。用此方法抛光,较好地解决了当前硬盘基板加工中抛光速率与表面质量之间的矛盾。
- 孙业林刘玉岭刘效岩魏恒谢竹石
- 关键词：去除速率粗糙度氧化剂
- 金刚石膜电化学对LCD上残留有机物清洗的研究
- 2009年
- 随着微电子技术的发展,对清洗技术的要求也越来越严格。LCD由于低功耗、高画质和轻巧等优势,已作为平板显示领域的主导技术。采用金刚石膜电化学的强氧化物质对液晶盒上的残留有机物进行清洗,通过实验得出较好的清洗的氧化浓度和清洗时间,通过显微镜观察,电化学清洗能够有效去除有机物污染,对比了一般清洗与电化学清洗效果,得出了更适合清洗残留有机物的方法。
- 陈婷刘玉岭魏恒梁蒲
- 关键词：电化学液晶显示器表面污染有机物
- 蓝宝石衬底表面粗糙度的研究被引量：5
- 2009年
- 简述了纳米级超光滑蓝宝石衬底的用途及发展前景,以SiO2为磨料并且加入了表面活性剂和螯合剂的碱性抛光液做了抛光实验。分析了表面粗糙度与抛光液pH值的关系,比较了不同压力对粗糙度的影响,研究了粗糙度随流量的变化规律;以原子力显微镜为主要检测工具,找到了制备超光滑蓝宝石衬底最佳CMP工艺,在保证抛光速率的同时使表面质量达到超光滑表面的要求,有效地降低了成本。
- 魏恒刘玉岭陈婷孙业林刘效岩
- 关键词：蓝宝石衬底化学机械抛光粗糙度去除速率
