您的位置： 专家智库 > >

全廷立

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇真空室
  • 1篇射频溅射
  • 1篇溅射
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇贾京英
  • 1篇刘咸成
  • 1篇全廷立

传媒

  • 1篇真空

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
全选 清除 导出
排序方式：
一种双真空室结构磁控溅射台的研制被引量：2
2012年
本文研制了一种较高档的磁控溅射镀膜设备,用于微电子器件规模化生产过程中的基片表面镀膜。该设备采用双真空室结构,使溅射室始终维持较高的真空度和洁净度,提高镀膜质量和镀膜效率。环绕溅射室设计了3个直流靶和1个射频靶,能够溅射金属膜、介质膜、混合物和化合物薄膜。文中详述了该设备的设计原理、总体结构及工艺控制方法。该磁控溅射台已开发成功并投入使用,替代了同类进口设备。
全廷立刘咸成贾京英
关键词：磁控溅射射频溅射
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0