您的位置: 专家智库 > >

于业梅

作品数:5 被引量:7H指数:2
供职机构:曲阜师范大学更多>>
发文基金:山东省自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 4篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 4篇脉冲激光
  • 4篇脉冲激光沉积
  • 3篇光学
  • 3篇光学性
  • 2篇退火
  • 2篇退火处理
  • 2篇结构和光学性...
  • 2篇光学性质
  • 1篇带隙
  • 1篇虚拟化
  • 1篇虚拟机
  • 1篇虚拟机技术
  • 1篇射线衍射
  • 1篇透射
  • 1篇透射光
  • 1篇透射光谱
  • 1篇线程
  • 1篇线程管理
  • 1篇脉冲
  • 1篇金刚石薄膜

机构

  • 5篇曲阜师范大学
  • 3篇鲁东大学

作者

  • 5篇于业梅
  • 3篇徐言东
  • 3篇李新坤
  • 3篇李清山
  • 2篇丁旭丽
  • 1篇蒙延峰
  • 1篇张霞
  • 1篇李天盟
  • 1篇孙玉丰
  • 1篇蒙岩峰

传媒

  • 1篇物理实验
  • 1篇激光技术
  • 1篇发光学报

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2010
  • 3篇2009
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
一种虚拟化WebService的IaaS的构建方法
为了克服用现有虚拟机技术部署企业私有云存在的缺点,本发明提出了一种虚拟化WebService的IaaS的构建方法。该方法采用线程虚拟技术作为虚拟化的WebService,避开了运用主流虚拟机技术部署IaaS的复杂性。这种...
李天盟孙玉丰于业梅
文献传递
氦压对类金刚石薄膜结构和光学性质的影响被引量:1
2009年
使用脉冲激光沉积技术在不同氦压下制备了系列无氢类金刚石薄膜,测量了样品的Raman光谱、光吸收光谱和光致发光光谱,采用原子力显微镜测试了薄膜的表面形貌,研究了薄膜的微结构和光学性质与制备条件的依赖关系.结果表明,该薄膜是由sp2和sp3杂化碳原子组成的非晶碳膜.薄膜的光学带隙在1.45~1.78 eV.薄膜的发光在可见光区呈宽带结构,氦压能够对类金刚石薄膜的结构和光学性质产生较大影响.当氦压从0.05 Pa升高至15 Pa时,sp2团簇变大,带尾态增多,从而导致薄膜的发光增强,光学带隙变窄,发光峰位红移.AFM形貌表明随着氦压的升高,薄膜的表面由致密光滑变得粗糙,并且许多大小不均匀的球状颗粒出现在薄膜表面.
丁旭丽李清山徐言东于业梅李新坤
关键词:类金刚石薄膜脉冲激光沉积
退火处理对ZnS薄膜的结构和光学性质的影响被引量:3
2009年
在200℃下利用激光沉积技术分别在玻璃和Si(100)上沉积制备了ZnS薄膜,并在300,400,500℃下退火1h。用X射线衍射(XRD)仪、紫外/可见光/近红外分光光度计、台阶仪和原子力显微镜(AFM)分别对不同衬底上样品的特征进行了观察。结果表明,玻璃上的ZnS薄膜只在28.5°附近存在着(111)方向的高度取向生长。在可见光范围内透射率为60%~90%。计算显示薄膜的光学带隙在3.46~3.53eV之间,其小于体材料带隙的原因在于硫元素的缺失。根据光学带隙判断薄膜是单晶立方结构的β-ZnS。Si(100)上生长的是多晶ZnS薄膜:500℃下退火后,表面也比未退火表面更加平整致密,变化规律与ZnS/glass的类似。说明高温下退火可以有效地促进晶粒的结合并改善薄膜质量。
徐言东李清山蒙延峰张霞于业梅李新坤丁旭丽
关键词:脉冲激光沉积光学带隙表面形貌
脉冲激光沉积制备Cu掺杂ZnO薄膜的研究
ZnO是一种宽禁带化合物直接带隙半导体材料,其室温时禁带宽度为3.37eV,具有良好的热稳定性和化学稳定性,优良的光电性能使得该材料有着广泛用途。在纯氧化锌研究了一段时间已经趋于成熟后,将其进行掺杂并研究其掺杂以后的性质...
于业梅
关键词:脉冲激光沉积光致发光X射线衍射透射光谱退火处理
文献传递
Cu掺杂ZnO薄膜光学性质的研究被引量:3
2010年
为了制备结晶质量好的Cu掺杂ZnO薄膜,研究其结构和光学性质,采用脉冲激光沉积方法,在Si衬底上选择不同的衬底温度来制备薄膜。实验成功制得了结晶质量较好的Cu掺杂ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光分光光度计对样品进行了测量和分析。所制备的样品均表现出高度的c轴择优取向,衬底温度为300℃时,薄膜表面形貌均匀致密;在样品的光致发光谱中,发现样品除了在380nm附近出现紫外发光峰外,在460nm附近出现了蓝光发光峰,真正意义上实现了ZnO薄膜的蓝光发射。结果表明,衬底温度对其晶体质量有较大影响。
于业梅李清山李新坤徐言东蒙岩峰
关键词:脉冲激光沉积蓝光发射
共1页<1>
聚类工具0