杜中美
- 作品数：6 被引量：7H指数：2
- 供职机构：北京科技大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国防基础科研计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电气工程更多>>
- 表面活性剂Bi对自旋阀多层膜交换耦合场的影响及其微结构分析
- 2008年
- 采用磁控溅射方法制备了Ta(10nm)/NiFe(8nm)/Cu(2.6nm)/NiFe(3.6nm)/FeMn(9nm)/Ta(10nm)自旋阀多层膜.在Cu/NiFe界面沉积适量厚度的Bi原子能够有效地提高交换耦合场,沉积过量的Bi原子会导致交换耦合场下降.X射线光电子能谱分析结果表明:沉积在Cu/NiFe界面的Bi原子可以有效地抑制Cu原子在NiFe层表面的偏聚;当沉积过量的Bi原子时,Bi原子会进一步迁移到FeMn中,形成杂质,从而破坏了FeMn的反铁磁性,使交换耦合场降低.
- 杜中美蔡永香丁雷朱熠李明华滕蛟于广华
- 关键词：表面活性剂X射线光电子能谱
- 一种高精度磁编码器用磁鼓的制备方法
- 一种高精度磁编码器用磁鼓的制备方法，属于磁编码器技术领域。以铝合金为基体，以钴盐、还原剂、络合剂、缓冲剂按比例配成溶液，化学镀法制备Co－P或Co－Ni－P薄膜作为磁鼓的记录介质。薄膜中P含量为5～10％，为晶态，有磁性...
- 于广华王海成王立锦杜中美滕蛟朱逢吾
- 文献传递
- Ni-P底层对化学镀Co-P薄膜性能的影响被引量：2
- 2008年
- 采用化学镀工艺制备了Co-P磁记录薄膜,研究了非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的生长及性能的影响。研究结果表明：非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的晶体结构及取向无明显影响,镀态的Co-P薄膜均为密排六方结构,（100）（、002）、（101）的择优取向无明显变化;但非晶无磁的Ni-P底层可以提高薄膜的均匀性和一致性,表面无明显缺陷;细化晶粒,平均晶粒尺寸为100-150nm;提高Co-P薄膜的磁性能,矫顽力可达4.54×10^4A/m。当记录信号脉冲时,与铝基体上直接施镀相比,在Ni-P底层上的Co-P磁记录薄膜输出信号幅值均匀稳定,信噪比良好。
- 王海成杜中美王立锦滕蛟李明华于广华
- 关键词：化学镀CO-PNI-P
- 一种高精度磁编码器用磁鼓的制备方法
- 一种高精度磁编码器用磁鼓的制备方法，属于磁编码器技术领域。以铝合金为基体，以钴盐、还原剂、络合剂、缓冲剂按比例配成溶液，化学镀法制备Co-P或Co-Ni-P薄膜作为磁鼓的记录介质。薄膜中P含量为5～10％，为晶态，有磁性...
- 于广华王海成王立锦杜中美滕蛟朱逢吾
- 文献传递
- 化学镀Co-P薄膜的磁性及研究被引量：6
- 2007年
- 采用化学镀法制备了Co-P磁记录薄膜。当薄膜厚度为0.3μm时,矫顽力可达4.54×104A/m,剩余磁化强度为0.068T。X射线衍射分析表明,当Co-P薄膜较薄时,薄膜结构中无明显择优取向,晶粒较小,此时矫顽力较高;当厚度增加至3-4μm以上时,结构中择优取向明显,晶粒较大,此时薄膜的矫顽力较低。将其应用于磁旋转编码器的磁鼓记录介质,制成直径Φ40mm的磁鼓,当原始充磁磁极对数为512时,脉冲计数完整,输出信号强,波形稳定。
- 王海成杜中美王立锦于广华朱逢吾
- 关键词：化学镀磁鼓磁记录介质
- 高密度编码器磁鼓材料与自旋阀多层膜交换耦合研究
- 杜中美
- 关键词：磁记录磁鼓
