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张晓雯

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：北京航空航天大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇等效
  • 2篇等效电路
  • 2篇等效模型
  • 2篇低频噪声
  • 2篇电流传输比
  • 2篇光耦
  • 1篇点缺陷
  • 1篇电路
  • 1篇噪声
  • 1篇噪声分析
  • 1篇输出噪声
  • 1篇金属化
  • 1篇金属化工艺
  • 1篇晶化
  • 1篇可靠性
  • 1篇集成电路

机构

  • 3篇北京航空航天...

作者

  • 3篇黄姣英
  • 3篇张晓雯
  • 2篇孙悦
  • 2篇王宇飞
  • 1篇高成
  • 1篇胡振益

传媒

  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2014
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
一种包含内部缺陷的光耦低频噪声等效电路构建方法
一种包含内部缺陷的光耦低频噪声等效电路构建方法，该方法有五大步骤：步骤一：建立光耦的Pspice等效模型；步骤二：确定光耦的Pspice等效模型参数；步骤三：构建等效光耦低频噪声测试电路；步骤四：添加内部缺陷等效形式；步...
黄姣英孙悦王宇飞张晓雯
文献传递
集成电路中的晶化点缺陷分析
2014年
晶化点是集成电路金属化工艺中温度过高、合金导电性差的一种征兆,也会导致集成电路出现开路、短路等失效情形。总结了集成电路中晶化点缺陷的形成机理,对产生晶化点的工艺原因进行了探讨,并结合工程案例对晶化点缺陷导致的集成电路失效情形及有关失效机理进行了分析。最后,从工艺上提出若干改进这一缺陷的建议。
黄姣英胡振益张晓雯高成
关键词：集成电路金属化工艺可靠性
一种包含内部缺陷的光耦低频噪声等效电路构建方法
一种包含内部缺陷的光耦低频噪声等效电路构建方法，该方法有五大步骤：步骤一：建立光耦的Pspice等效模型；步骤二：确定光耦的Pspice等效模型参数；步骤三：构建等效光耦低频噪声测试电路；步骤四：添加内部缺陷等效形式；步...
黄姣英孙悦王宇飞张晓雯
文献传递
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