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杨凌霞

作品数：2 被引量：3H指数：1
供职机构：杭州电子科技大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金浙江省科技计划项目更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇等离子增强化...
  • 1篇电感耦合
  • 1篇丁酯
  • 1篇氧化硅薄膜
  • 1篇锐钛矿
  • 1篇气相
  • 1篇气相沉积
  • 1篇气相沉积法
  • 1篇钛酸
  • 1篇外置
  • 1篇颗粒尺寸
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇化学气相沉积...
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇二氧化硅薄膜
  • 1篇高活性
  • 1篇SUB

机构

  • 2篇杭州电子科技...

作者

  • 2篇季振国
  • 2篇席俊华
  • 2篇杨凌霞
  • 1篇张峻
  • 1篇陶曦
  • 1篇钱丽莎
  • 1篇刘永强

传媒

  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
一种{111}面暴露高活性TiO<Sub>2</Sub>纳米光催化剂的制备方法
本发明涉及一种{111}面暴露高活性TiO<Sub>2</Sub>纳米光催化剂的制备方法。本发明方法首先将钛酸四丁酯和氢氟酸混合成前驱液，加入NH<Sub>4</Sub>F，置于水热反应釜中进行水热反应，反应后的固液混合...
张峻钱丽莎陶曦杨凌霞席俊华季振国
文献传递
外置式电感耦合化学气相沉积法低温制备SiO_2薄膜被引量：3
2013年
设计了一种外置式电感耦合等离子增强化学气相沉积装置,并利用该装置在n型硅片上低温沉积了SiO2薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、傅立叶变换红外吸收谱(FTIR)等对生长的薄膜进行表征。SEM测试结果表明,利用该装置沉积的SiO2薄膜表面平整,薄膜均匀性好;根据FTIR图中Si-O峰的横向与纵向光学声子吸收峰的分析发现,沉积功率越大,薄膜越疏松;等离子体区域内不同位置沉积的薄膜均匀,能够用于大规模、大面积的工业生产。此外,为了方便地获知SiO2薄膜的厚度,我们推导出了50W的功率下,薄膜厚度随沉积温度、沉积时间变化的经验公式。
席俊华刘永强杨凌霞季振国
关键词：二氧化硅薄膜电感耦合等离子增强化学气相沉积
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