王薇薇
- 作品数：5 被引量：24H指数：3
- 供职机构：浙江大学材料科学与工程学系硅材料国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信语言文字更多>>
- 论对外报道的特色和要求
- 王薇薇
- TiO_2薄膜发展现状及APCVD制备掺氮TiO_2性能研究被引量：3
- 2006年
- 概述了TiO2的国内外发展现状,从原理、改性等方面详细介绍了TiO2的光催化特性,并对TiO2的制备方法进行了总结概括。用APCVD法所做的气体流量系列掺氮TiO2样品进行测试分析发现,氮已经掺入TiO2中,氮的掺杂改善了薄膜表面的亲水性能。
- 王薇薇郭玉张溪文韩高荣
- 关键词：光催化性APCVD
- APCVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其性能研究被引量：16
- 2006年
- 采用常压化学气相沉积(APCVD)法,以四氯化钛(TiC l4)、氧气(O2)氨气(NH3)作为先驱体,成功制备了掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜。通过对其进行扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外可见透过光谱(UV-VIS)研究后发现,氮掺杂后在二氧化钛薄膜中引入Ti4O7相,抑制了锐钛矿相向金红石相的转变,光吸收限发生红移,相应从365.8nm红移到了402.6nm,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。
- 王薇薇郭玉张溪文韩高荣
- 关键词：光催化性亲水性常压化学气相沉积
- TiO_2单层膜及TiO_2/SnO_2：F复合膜的DBD-CVD制备及性能研究
- 本论文介绍了YiO_2薄膜光催化和亲水性的研究背景及其原理,比较了各种TiO_2薄膜的制备技术和方法,并对其光催化和亲水性的影响因素进行了总结。提出以介质阻挡放电化学气相沉积法(DBD-CVD)制备TiO_2单层薄膜和T...
- 王薇薇
- 关键词：TIO_2薄膜
- 文献传递
- DBDCVD法制备a-Si:H的性能研究被引量：5
- 2006年
- 本文用介质阻挡放电化学气相沉积(DBDCVD)在室温下进行了非晶氢硅薄膜制备。通过硅烷氢气流量比、DBD放电电压等工艺条件的调整,在玻璃上沉积了系列样品。研究表明,DBDCVD法可以在室温下快速制备非晶氢硅薄膜,最大沉积速率可达0.34nm/s,由于DBDCVD的高能量和室温沉积的特点,薄膜中硅-氢键以SiH2为主。随硅烷反应气体浓度的变化,薄膜的光学带隙可在1.92eV^2.18eV之间调整。
- 陈萌炯张溪文郭玉王薇薇韩高荣
- 关键词：非晶硅
