罗畅
- 作品数:9 被引量:11H指数:2
- 供职机构:武汉大学更多>>
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- 相关领域:金属学及工艺一般工业技术更多>>
- 接地网NiP-DLC复合抗腐蚀防护涂层及制备方法
- 本发明公开了一种接地网NiP-DLC复合抗腐蚀防护涂层及制备方法,本发明涂层包括覆在接地网材料上的NiP合金涂层和覆在NiP合金涂层上的纯碳类金刚石涂层,其中,NiP合金涂层为抗腐蚀涂层,纯碳类金刚石涂层为高硬度抗氧化涂...
- 万强杨兵罗畅刘辉东
- 文献传递
- 钛金属表面原位合成TiC‑DLC复合涂层的方法
- 本发明公开了一种钛金属表面原位合成TiC‑DLC复合涂层的方法,将Ti靶置于镀膜室内,并通入烃类气体,对镀膜室抽真空并保持100~400℃温度,采用电弧离子镀使Ti离子从Ti靶蒸发出来,同时利用电弧放电离化烃类气体,从而...
- 徐雅柔杨兵万强刘辉东罗畅陈燕鸣梅青松
- 文献传递
- 700℃下TP347H耐热钢水蒸汽下初期氧化行为研究被引量:1
- 2015年
- 为研究TP347H奥氏体不锈钢的在高温水蒸汽下的初期氧化行为,采用自行设计的蒸汽氧化实验模拟装置,在700℃下进行了1.5,2,3,4h 4个不同时段的氧化实验。利用SEM与AFM观察了样品表面与截面形貌,结果表明:在700℃下,TP347H快速氧化,表面首先被细小颗粒完全覆盖,随后生出许多岛状结构,且在岛状结构上会长出细小晶须.EDS与Raman结果显示,氧化层为内外两层,主要由Cr2O3、Ni O、Fe Cr2O4、Fe Cr2O4构成.
- 陈燕鸣万强罗畅陈林万金
- 关键词:氧化皮结构
- T91钢高温运行下碳化物粗化行为的研究被引量:2
- 2015年
- 通过对实际电厂运行的T91钢进行金相观察、扫描电子显微镜(SEM)分析,从微观组织变化查看T91钢长期高温环境下的老化状况,同时对供货态的T91钢进行研究作为对比.在定量金相法的数据基础上,得到了T91钢扩散速度控制的长大动力学方程.结果表明:T91钢经过长时间服役后,碳化物颗粒在晶界处发生聚集,同时颗粒逐渐粗大,使得晶内碳化物数量减少,强化效果降低.
- 万强陈林万金罗畅
- 关键词:T91钢
- 多弧离子镀制备TiN涂层的高温氧化行为分析被引量:4
- 2015年
- 利用多弧离子镀技术沉积TiN涂层,并在空气中对该涂层进行了500~680℃范围内的氧化实验.通过SEM与XRD技术分析了实验制备的TiN涂层及其氧化产物的结构形貌,结果表明:多弧离子镀技术所沉积的TiN涂层表面较为粗糙,存在大量颗粒与凹坑;TiN涂层在空气中的氧化产物为TiO2,550℃时存在较轻程度的氧化行为,随着温度的升高,氧化作用加剧,在温度为650℃时TiN涂层氧化程度加深,但剥落并不明显,当温度超过650℃达到680℃,TiN涂层完全氧化,部分区域因为应力作用而发生严重剥落.
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- 关键词:TIN多弧离子镀
- AlTiSiN/AlCrSiN纳米多层复合涂层的结构及性能研究被引量:4
- 2016年
- 以AlTiSi合金和AlCrSi合金为靶材料,采用阴极电弧离子镀技术在单晶硅、硬质合金基底上沉积AlTiSiN/AlCrSiN纳米晶多层复合涂层,系统研究了氮气压强变化对AlTiSiN/AlCrSiN复合涂层结构和力学性能的影响.利用扫描电镜和X射线衍射仪分析了涂层的形貌和相结构,用显微硬度计和摩擦磨损仪测量了涂层显微硬度和摩擦系数.结果表明:氮气压强对涂层微结构和性能具有较大影响,涂层是以NaCl型TiN和CrN相结构为主的多晶材料.由于多元素掺杂导致复合涂层的衍射峰与纯TiN和CrN衍射峰位相比发生一定的偏移.随着氮气压强的增大,涂层的衍射峰强度逐渐降低并宽化,说明随着氮气压强的增大晶粒尺寸减小.涂层表面的颗粒污染和沉积气压密切相关,随气压增加污染颗粒尺寸逐步减少,涂层表面粗糙度降低;当氮气压从2.0Pa增加到4.0Pa时涂层的硬度值由2437.9HK逐渐增大至3221.5HK;涂层摩擦学性能也和氮气压密切相关,当氮气压强低于3.0Pa时,平均摩擦系数约0.410;而在氮气压强高于3.0Pa后,平均摩擦系数逐渐降至0.258.
- 杨兵刘琰刘辉东罗畅万强蔡耀陈浩陈燕鸣
- 关键词:电弧离子镀显微硬度
- 钼氧化物单晶的制备及物性研究
- 罗畅
- 关键词:电荷密度波各向异性光诱导电子结构
- 接地网NiP-DLC复合抗腐蚀防护涂层制备方法
- 本发明公开了一种接地网NiP-DLC复合抗腐蚀防护涂层制备方法,本发明涂层包括覆在接地网材料上的NiP合金涂层和覆在NiP合金涂层上的纯碳类金刚石涂层,其中,NiP合金涂层为抗腐蚀涂层,纯碳类金刚石涂层为高硬度抗氧化涂层...
- 万强杨兵罗畅刘辉东
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- 钛金属表面原位合成TiC-DLC复合涂层的方法
- 本发明公开了一种钛金属表面原位合成TiC-DLC复合涂层的方法,将Ti靶置于镀膜室内,并通入烃类气体,对镀膜室抽真空并保持100~400℃温度,采用电弧离子镀使Ti离子从Ti靶蒸发出来,同时利用电弧放电离化烃类气体,从而...
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