逯鑫淼
- 作品数：3 被引量：5H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市科学技术委员会基础研究重点项目更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 近红外波段锑基铋掺杂薄膜厚度对光学常数与光学带隙的影响被引量：2
- 2012年
- 采用磁控溅射法制备了不同厚度的锑基铋掺杂薄膜,用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)研究了薄膜结构随厚度的变化。利用椭圆偏振法测定了样品薄膜在近红外波段的光学常数与光学带隙,研究了膜厚对样品薄膜光学常数和光学带隙的影响。结果表明,膜厚从7nm增加至100nm时,其结构由非晶态转变为晶态。在950～2200nm波段,不同厚度薄膜样品的折射率在4.6～8.9范围,消光系数在0.6～5.8范围,光学带隙在0.32～0.16eV范围。随着膜厚的增加,薄膜的折射率和光学带隙减小,而消光系数升高;光学常数在膜厚50nm时存在临界值,其原因是临界值前后薄膜微观结构变化不同。
- 逯鑫淼姜来新吴谊群王阳
- 关键词：光学常数膜厚
- 铋掺杂锑基掩膜只读式超分辨光盘
- 一种铋掺杂锑基掩膜只读式超分辨光盘，由盘基、掩膜层和介质层组成，所述的掩膜层是铋掺杂锑基(Sb<Sub>(1-x)</Sub>Bi<Sub>x</Sub>)膜层，膜层厚度的取值范围是10～100nm，x值的取值范围是0....
- 逯鑫淼吴谊群王阳魏劲松
- 文献传递
- 锑铋合金薄膜的光学常数被引量：3
- 2012年
- 锑铋合金薄膜是一种新型超分辨光学功能材料,了解它的基本光学性质对其在光学信息存储及光子器件应用方面具有重要意义。用磁控溅射法制备了不同成分的锑铋合金薄膜(Sb1-XBiX,X=0,0.1,0.2,0.3,0.88,1),用椭圆偏振法测量了薄膜的光学常数(折射率n和消光系数k)。研究表明,在可见光波段(300～850nm),锑铋合金膜的折射率和消光系数都随着铋含量的增加而减小,且薄膜折射率和消光系数同时随波长的增加而增加,折射率呈现反常色散特性。用原子力显微镜、X射线衍射仪研究了成分变化对薄膜表面形貌和微结构的影响。研究表明,锑铋合金薄膜的微观结构呈现多晶态,晶化程度随着铋含量的增加而增加,这可能是影响其光学常数变化的主要因素。
- 姜来新逯鑫淼王阳吴谊群
- 关键词：光学常数磁控溅射
