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董凯峰

作品数:4 被引量:5H指数:2
供职机构:华中科技大学光学与电子信息学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金湖北省自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电气工程
  • 3篇一般工业技术

主题

  • 2篇性能及微观结...
  • 2篇溅射
  • 2篇矫顽力
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇微观结构
  • 1篇颗粒膜
  • 1篇ROOM_T...
  • 1篇TH
  • 1篇CR
  • 1篇IN_FIL...
  • 1篇MAGNET...
  • 1篇MICROS...
  • 1篇磁性能
  • 1篇磁学
  • 1篇N

机构

  • 4篇华中科技大学
  • 1篇华中师范大学

作者

  • 4篇杨晓非
  • 4篇董凯峰
  • 3篇李佐宜
  • 3篇程晓敏
  • 1篇胡曾
  • 1篇黄致新
  • 1篇林更琪
  • 1篇崔增丽
  • 1篇张峰

传媒

  • 1篇华中师范大学...
  • 1篇华中科技大学...
  • 1篇功能材料
  • 1篇第六届中国国...

年份

  • 2篇2008
  • 2篇2007
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
[FePt/Ag]_n多层颗粒膜的磁学性能及微观结构被引量:2
2008年
采用磁控溅射方法制备了一系列[FePt/Ag]n多层颗粒膜,经过退火处理,用原子力磁力显微镜和振动样品磁强计研究了其微观结构及磁学性能.研究结果表明:在FePt薄膜中加入适当含量的Ag有利于FePt在较低退火温度下发生有序化相变,但在FePt有序化相变完成之后,颗粒膜中的Ag原子的扩散阻碍薄膜矫顽力的进一步提高;[FePt/Ag]n颗粒膜的晶粒及其岛状磁畴的大小随着退火温度的升高而增大;溅射成膜过程中适当的基片加温有利于降低[FePt/Ag]n颗粒膜的后续退火处理温度.
程晓敏杨晓非董凯峰李佐宜
关键词:磁控溅射矫顽力
Magnetic Properties and Microstructure of CoCrPtNb/Cr(CrTi)/C Thin Films Sputtered on Glass Substrate at Room Temperature
CoCrPtNb/Cr(CrTi)/C films for longitudinal recording disks were deposited by magnetron sputtering apparatus on...
杨晓非程晓敏董凯峰林更琪李佐宜
Cu底层对SmCo薄膜磁性能的影响被引量:1
2007年
通过多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo/Cu磁性薄膜.采用控制变量法优化了磁性层溅射工艺参数,制备出了矫顽力高达2400 Oe的溅射态SmCo面内磁化膜;通过控制溅射Cu底层时的基片温度,薄膜磁化方向有从面内向垂直方向转变的趋势,并制备出矫顽力达到6215 Oe的垂直面内方向的SmCo/Cu薄膜;利用扫描隧道显微镜(STM)分析SmCo薄膜在不同温度下的表面形貌发现,150℃时薄膜的晶粒尺寸较小有利于改善薄膜磁性能.
张峰黄致新胡曾崔增丽董凯峰杨晓非
关键词:磁控溅射矫顽力
溅射方法对FePt:Ag颗粒膜磁性能及微观结构的影响被引量:2
2008年
分别采用共溅射和多层膜溅射方法制备了FePt∶Ag颗粒膜。样品的磁性能和微观特性分别用振动样品磁强计(VSM)、磁力显微镜(MFM)和透射电镜(TEM)进行了表征。研究结果表明:多层膜溅射制备的FePt∶Ag颗粒膜能在较低的退火温度下发生有序化相变;而共溅射制备的FePt∶Ag颗粒膜经过相同的退火条件后,具有更高的矫顽力,及更细、分布更均匀的晶粒和磁畴结构。
程晓敏杨晓非董凯峰李佐宜
关键词:磁性能微观结构
共1页<1>
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