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李金财

作品数:2 被引量:1H指数:1
供职机构:湘潭大学更多>>
发文基金:中国科学院重点部署项目湖南省自然科学杰出青年基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇磁各向异性
  • 1篇条纹
  • 1篇铁磁
  • 1篇铁磁共振
  • 1篇NIFE
  • 1篇磁畴
  • 1篇磁性
  • 1篇磁性薄膜

机构

  • 2篇湘潭大学
  • 1篇中国科学院宁...

作者

  • 2篇李金财
  • 1篇谢淑红

传媒

  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2016
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
三种Fe基磁性薄膜的磁畴结构、磁各向异性及其高频性质的研究
磁各向异性是磁性薄膜最重要的基本特征之一,它的强度决定了磁性薄膜的自然共振频率。利用传统的调控方法产生一个方向确定的静态磁各向异性。若该薄膜用于高频磁性器件时则表现出明显的方向性,当微波磁场偏离磁各向异性的垂直方向时,器...
李金财
关键词:磁性薄膜磁各向异性
具有条纹磁畴结构的NiFe薄膜的制备与磁各向异性研究被引量:1
2016年
具有条纹磁畴结构的磁性薄膜表现出面内转动磁各向异性,对于解决高频电子器件的方向性问题起着至关重要的作用.本文采用射频磁控溅射的方法,研究了NiFe薄膜的厚度、溅射功率密度、溅射气压等制备工艺参数对条纹磁畴结构、面内静态磁各向异性、面内转动磁各向异性、垂直磁各向异性的影响规律.研究发现,在功率密度15.6 W/cm^2与溅射气压2 mTorr(1 Torr=1.33322×102Pa)下生长的NiFe薄膜,表现出条纹磁畴的临界厚度在250 nm到300 nm之间.厚度为300 nm的薄膜比250 nm薄膜的垂直磁各向异性场增大近一倍,从而磁矩偏离膜面形成条纹磁畴结构,并表现出面内转动磁各向异性.高溅射功率密度可以降低薄膜出现条纹磁畴的临界厚度.在相同功率密度15.6 W/cm^2下生长300 nm的NiFe薄膜,随着溅射气压由2 mTorr增大到9 mTorr,NiFe薄膜的垂直磁各向异性场逐渐由1247.8 Oe(1 Oe=79.5775 A/m)增大到3248.0 Oe,面内转动磁各向异性场由72.5 Oe增大到141.9 Oe,条纹磁畴周期从0.53μm单调减小到0.24μm.NiFe薄膜的断面结构表明柱状晶的形成是表现出条纹磁畴结构的本质原因,高功率密度下低溅射气压有利于柱状晶结构的形成,表现出规整的条纹磁畴结构,高溅射气压会导致柱状晶纤细化,面内转动磁各向异性与面外垂直磁各向异性增强,条纹磁畴结构变得混乱.
李金财詹清峰潘民杰刘鲁萍杨华礼谢亚丽谢淑红李润伟
关键词:铁磁共振
共1页<1>
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