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谢立

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：中国科学院物理研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇栅压
  • 1篇石墨
  • 1篇石墨烯
  • 1篇刻蚀
  • 1篇各向异性刻蚀

机构

  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 1篇时东霞
  • 1篇张广宇
  • 1篇杨蓉
  • 1篇谢立
  • 1篇陈鹏

传媒

  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2016
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
双层石墨烯在栅压调控下的各向异性刻蚀被引量：1
2016年
石墨烯纳米结构在纳电子学研究领域表现出了良好的应用前景.氢等离子体各向异性刻蚀技术是加工石墨烯精细纳米结构的关键技术之一,可以实现10 nm以下平整的锯齿型石墨烯纳米带的可控加工.本文系统研究了外加电场对石墨烯各向异性刻蚀效应的影响,利用外加栅压实现了氧化硅衬底上的双层石墨烯各向异性刻蚀速率的调控.在±30 V栅压变化范围内,刻蚀速率比可达45.由此不仅可以提高大批量加工石墨烯纳米结构的效率,还可以实现5 nm以下极小尺寸石墨烯纳米带的可控加工.研究结果为石墨烯精细纳米结构器件的高效批量加工提供了思路.
王国乐谢立陈鹏杨蓉时东霞张广宇
关键词：各向异性刻蚀栅压
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共1页<1>
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