张星远
- 作品数：16 被引量：1H指数：1
- 供职机构：山东科技大学更多>>
- 发文基金：'泰山学者'建设工程专项更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 一种基于反转压印纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法
- 本发明公开了一种基于反转压印纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法，其采用电子束光刻技术和反应离子刻蚀技术，按预先设计的光子晶体结构参数，刻蚀出具有纳米量级图案的刚性模板作为母模板，以制备出具有逆纳米量级图案的弹性...
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- 文献传递
- 一种基于纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法
- 本发明公开了一种基于纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法，其按预先设计的光子晶体结构参数，刻蚀出母模板，以制备出具有逆纳米量级图案的弹性聚合物软模板，并将软模板作为二次模板，通过三步图案转移的方式，将母模板上的图...
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- 文献传递
- 热压印脱模工艺中摩擦系数影响的研究被引量：1
- 2016年
- 压印胶层纳米结构在热压印脱模工艺中的变形关系到纳米器件质量的高低。为了提高纳米器件的质量,研究脱模过程中模板和压印胶之间的接触特性至关重要。采用模型优化、数值模拟和理论分析相结合的方法研究摩擦系数对胶层纳米结构受力和变形的影响,得到摩擦系数增大时von-Mises应力云图和胶层纳米结构顶端变形曲线。分析应力云图可得胶层纳米结构的最大应力和变形在脱模初期随摩擦系数增大而增大,在脱模后期随摩擦系数增大而减小,并从压印胶受力角度对胶层纳米结构顶端变形进行解释。对比顶端变形曲线可得Ni-PTFE模板最佳摩擦系数为0.20,Ni-PTFE模板最优化PTFE含量为15g/L。通过最佳接触特性对模板进行优化可以减少胶层纳米结构变形,提高纳米器件质量。
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- 关键词：热压印脱模数值模拟
- 一种聚合物基板与金属涂层之间粘结力的测量方法
- 本发明公开了一种聚合物基板与金属涂层之间粘结力的测量方法，其在现有技术的基础上，通过采用带中心通孔的掩模板，将其水平放置在聚合物基板上，并在掩模板的上表面均匀涂抹上一层强力粘结胶；然后再沉积上金属涂层，并利用掩膜板厚度大...
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- 一种具有双层纳米结构的金属/聚合物的制备方法
- 本发明公开了一种具有双层纳米结构的金属/聚合物复合材料的制备方法，其包括以下步骤：采用自组装的方法，在模板表面上，修饰一层低表面能的防粘材料，作为防粘层；然后，在防粘层上沉积上一层纳米金属薄膜层；再在金属薄膜层上旋涂一层...
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- 一种用于纳米压印过程中的改进装置
- 本实用新型公开了一种用于纳米压印过程中的改进装置，包括曝光光源、观测光源及观测孔，所述观测光源安装在紫外曝光装置中，所述曝光光源采用LED紫外灯，所述观测孔被观测光源与曝光光源环绕。与现有技术相比，本实用新型使压印过程的...
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- 一种腔式结构的纳米压印模板及其压印成型方法
- 本发明公开了一种腔式结构的纳米压印模板及其压印成型方法，其腔式结构的纳米压印模板为一体式结构，包括焊接在一起的上模板和下模板两部分；其中，上模板均匀设置有若干数量通透阶梯孔，下模板上均匀设置有若干数量沟槽，沟槽的两端分别...
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- 一种力响应性纳米量级光子晶体材料的制备方法
- 本发明公开了一种力响应性纳米量级光子晶体材料的制备方法，采用电子束光刻技术和反应离子刻蚀技术，按预先设计的光子晶体结构参数，刻蚀出具有纳米量级图案的刚性模板作为填充模板，以力学性能优异的高弹性凝胶作为基体材料、粘弹性聚合...
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- 一种腔式结构的纳米压印模板及其压印成型方法
- 本发明公开了一种腔式结构的纳米压印模板及其压印成型方法，其腔式结构的纳米压印模板为一体式结构，包括焊接在一起的上模板和下模板两部分；其中，上模板均匀设置有若干数量通透阶梯孔，下模板上均匀设置有若干数量沟槽，沟槽的两端分别...
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- 金属层厚度对金属/聚合物双层膜结构脱模过程的影响
- 2016年
- 在使用直接压印法制备金属/聚合物双层膜结构纳米图案时,脱模过程分析对双层膜结构的无缺陷成型具有至关重要的作用。采用有限元模拟的方法,通过改变金属层的厚度探讨在脱模过程中对金属层应力和变形的影响。根据数值模拟结果绘制出金属层在脱模过程中最大应力和变形量随金属层厚度的变化曲线。通过对变化曲线的分析,发现金属层上中部的最大应力值以及弯曲变形量随着金属层厚度的增加而减小,并且金属层厚度为50nm时具有最佳的脱模效果,更适用于金属/聚合物双层膜结构的脱模过程。
- 郑旭王清孟丽华张睿张星远
- 关键词：有限元法应力
