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李烨

作品数:5 被引量:2H指数:1
供职机构:河北工业大学更多>>
相关领域:经济管理自动化与计算机技术电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 1篇经济管理
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇化学机械抛光
  • 3篇机械抛光
  • 2篇抛光
  • 2篇抛光液
  • 2篇钽酸锂
  • 2篇CEO
  • 1篇氧化硅
  • 1篇有机盐
  • 1篇溶胶
  • 1篇石英玻璃
  • 1篇抛光速率
  • 1篇球磨
  • 1篇去除速率
  • 1篇无机盐
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米级
  • 1篇纳米级二氧化...
  • 1篇酒店
  • 1篇酒店业

机构

  • 5篇河北工业大学

作者

  • 5篇李烨
  • 3篇张保国
  • 1篇吴鹏飞

传媒

  • 1篇稀土
  • 1篇润滑与密封

年份

  • 1篇2023
  • 3篇2022
  • 1篇2014
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
高分散稳定性CeO_(2)抛光液的制备及其抛光性能研究
2022年
通过湿固相机械法制备CeO_(2)悬浮液。在不同温度下焙烧Ce_(2)(CO_(3))_(3)制备CeO_(2)粉末,以无机酸作为分散剂,采用湿式球磨的方法进行CeO_(2)的分散,分别研究了分散剂的种类、料球比以及球磨液的pH值等因素对悬浮液分散性能的影响。结果表明,随着焙烧温度的升高,制备的CeO_(2)粉末的团聚程度先降低后升高。采用硝酸为新型分散剂,当焙烧温度为900℃、球磨液pH为2、料球质量比为1∶4时,所得CeO_(2)的平均粒径(D50)为230 nm。以此CeO_(2)悬浮液作为磨料,在磨料质量分数为1%、pH为5条件下,SiO_(2)材料的抛光速率可达248.9 nm/min,抛光后表面均方根粗糙度(RMS)为0.588 nm。研究结果可以对碳酸铈直接制备氧化铈悬浮液短流程开发提供参考。
杨朝霞张保国张保国李烨李浩然
关键词:抛光液球磨化学机械抛光
用于光学玻璃CMP的高效稀土抛光液研究
2023年
以纳米二氧化铈(CeO_(2))为磨料,使用球磨与不同化学试剂(如pH值调节剂乙酸、丙酸、植酸和分散剂离子型表面活性剂、非离子型表面活性剂)的协同分散方法制备纳米CeO_(2)抛光液,研究酸性体系下不同抛光液的分散性能与抛光性能。研究表明,球磨时以乙酸为pH值调节剂,调节溶液pH值为3,料球比为1∶4,球磨时间为6 h,球磨后纳米CeO_(2)悬浮液分散效果较好。采用制备的纳米CeO_(2)抛光液对石英玻璃进行抛光实验。结果表明:在磨料质量分数为1%、pH为4的条件下,石英玻璃的材料去除速率最高为409 nm/min,粗糙度仅为0.03 nm;阳离子、非离子型表面活性剂均有助于提升酸性体系下CeO_(2)悬浮液的分散稳定性,而加入非离子表面活性剂AEO-9(脂肪醇聚氧乙烯醚)效果最佳,其能够在提高分散稳定性的基础上改善石英玻璃的表面质量。
王也张保国张保国谢孟晨吴鹏飞李浩然
关键词:石英玻璃化学机械抛光去除速率
基于二氧化硅纳米磨料的钽酸锂材料化学机械抛光液及其制备方法
本发明属于抛光液领域,具体涉及一种基于二氧化硅纳米磨料的钽酸锂材料化学机械抛光液及其制备方法。抛光液包括下述组分:纳米级二氧化硅溶胶固体浓度为5‑40%;一价阳离子无机盐或者一价阳离子有机盐的浓度为0.014‑0.35m...
张保国李烨王万堂
钽酸锂晶片化学机械抛光速率及表面粗糙度的研究
电子信息产业进入高速发展阶段,钽酸锂晶体成为信息技术产业信息集成、调制、传输、显示等领域所生产压电、声光、激光等器件不可缺少的材料。高性能的电子器件要求钽酸锂晶体表面晶格完整,且无缺陷。传统的抛光技术很难获得高质量表面。...
李烨
关键词:钽酸锂化学机械抛光表面粗糙度
酒店业经营风险测度与影响因素研究
随着我国改革开放的深化、国内生产总值和居民消费水平的持续提高,酒店业的投资与建设速度不断加快,酒店业发展迅速,数量急剧扩张。与之不协调的是酒店业整体形势欣欣向荣,而个体经营却不容乐观,经营绩效不尽如人意。酒店供给超前于需...
李烨
关键词:酒店业
共1页<1>
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