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冯波
作品数:
10
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供职机构:
湖南大学
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相关领域:
电子电信
一般工业技术
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合作作者
王烁
湖南大学
蔡伟成
湖南大学
刘鸿飞
湖南大学
肖威
湖南大学
刘建军
湖南大学
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机构
10篇
湖南大学
作者
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冯波
4篇
王梓名
4篇
刘建军
4篇
肖威
4篇
刘鸿飞
4篇
蔡伟成
4篇
王烁
2篇
苏康
年份
6篇
2024
2篇
2018
1篇
2016
1篇
2015
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一种高效光子晶体1.31/1.55μm波分复用器
本发明公开了一种高效光子晶体1.31/1.55μm波分复用器,所述波分复用器的折射率分布为介质柱型,整个结构的介质柱以三角晶格结构排列,晶格常数a=0.6μm,介质柱半径r=0.12μm,材料折射率为2.95,对应III...
刘建军
王梓名
苏康
刘鸿飞
冯波
蔡伟成
肖威
王烁
梁泰源
文献传递
一种多电子束并行光刻装备电子束聚焦结构及其制造方法
本发明公开了一种多电子束并行光刻装备电子束聚焦结构及其制造方法,专用MEMS微孔阵列单元为核心部件,其能够将入射在表面的电子束进行分束,大幅面扩展束流数量;通过高压ASIC控制芯片,利用传输线,将不同的电压加至专用MEM...
冯波
王彪
陈艺勤
黄飞凤
王乾丞
陈曌
陈鸿彬
段辉高
一种新型高双折射光子准晶光纤
本发明公开了一种新型高双折射光子准晶光纤,其背景材料为SiO<Sub>2</Sub>,整个结构的散射子以十重Penrose型光子准晶结构排布,晶格常数为Λ,包层圆形空气孔直径分别为d<Sub>3</Sub>和d<Sub>...
刘建军
刘鸿飞
蔡伟成
肖威
冯波
王梓名
王烁
梁泰源
文献传递
一种X射线波带片过电镀金属层后道离子束回刻方法
本发明公开了一种X射线波带片过电镀金属层后道离子束回刻方法,包括如下步骤:S1)氮化硅隔膜窗口制备:S2)光刻:S3)电镀:S4)离子束抛光:本发明的离子束抛光方法具有高精度和均匀性、无接触和热影响、多种材料的选择性、清...
冯波
王彪
黄飞凤
王乾丞
陈鸿彬
陈曌
陈艺勤
段辉高
一种增强光刻分辨率和异质集成精度的制备方法
本发明公开了一种增强光刻分辨率和异质集成精度的制备方法,属于微纳制造技术领域,通过将光刻胶薄膜置于悬空状态执行曝光过程,消除衬底对于光刻分辨率,然后通过透明载体将曝光后的光刻胶剥离并完成显影,之后将显影后的光刻胶图案转移...
冯波
王彪
黄飞凤
王乾丞
陈曌
陈鸿彬
陈艺勤
段辉高
一种应用于3D IC的正/背面套刻集成方法
本发明公开了一种应用于3D IC的正/背面套刻集成方法,包括步骤:外延衬底准备(top‑Si/SiGe‑牺牲层on Si基底);正面“贯穿式形态”套刻标记制备;芯片正面器件/结构制备:在硅衬底所外延的top‑Si层顶部,...
冯波
黄飞凤
王彪
段辉高
一种功能性纳米薄膜全干法转移方法
本发明公开了一种功能性纳米薄膜全干法转移方法,所述干法转移方法中的关键在于采用自组装单分子层,分别修饰施主、受主衬底表面,将其与功能性纳米薄膜之间的粘附力大小进行精确调控,从而可实现晶圆级尺寸、极端厚度纳米薄膜材料与同质...
冯波
黄飞凤
王彪
陈曌
陈鸿彬
王乾丞
段辉高
一种新型高双折射光子准晶光纤
本发明公开了一种新型高双折射光子准晶光纤,其背景材料为SiO<Sub>2</Sub>,整个结构的散射子以十重Penrose型光子准晶结构排布,晶格常数为Λ,包层圆形空气孔直径分别为d<Sub>3</Sub>和d<Sub>...
刘建军
刘鸿飞
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王烁
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一种高效光子晶体1.31/1.55μm波分复用器
本发明公开了一种高效光子晶体1.31/1.55μm波分复用器,所述波分复用器的折射率分布为介质柱型,整个结构的介质柱以三角晶格结构排列,晶格常数a=0.6μm,介质柱半径r=0.12μm,材料折射率为2.95,对应III...
刘建军
王梓名
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刘鸿飞
冯波
蔡伟成
肖威
王烁
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一种应用于多电子束光刻装备的电子光学系统及制造方法
本发明公开了一种应用于多电子束光刻装备的电子光学系统及制造方法,包括高压ASIC控制芯片、专用MEMS微孔阵列单元及传输线三个部分。其中专用MEMS微孔阵列单元作为核心部件,能够将入射在表面的电子束进行分束,大幅面扩展束...
冯波
黄飞凤
陈艺勤
王彪
王乾丞
陈曌
陈鸿彬
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