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李静

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：华东理工大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇等离子
  • 1篇等离子喷涂
  • 1篇等离子喷涂涂...
  • 1篇熔滴
  • 1篇涂层
  • 1篇喷涂
  • 1篇喷涂涂层
  • 1篇偏转
  • 1篇离子喷涂
  • 1篇晶须
  • 1篇扁平化

机构

  • 1篇华东理工大学

作者

  • 1篇王卫泽
  • 1篇李静
  • 1篇舒杰

传媒

  • 1篇表面技术

年份

  • 1篇2015
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
晶须强化等离子喷涂涂层中的熔滴扁平化及晶须偏转行为的模拟
2015年
目的了解等离子喷涂涂层过程中的晶须偏转行为,为提高涂层的抗冲蚀性能提供新思路。方法分别采用计算流体动力学软件FLUENT和有限元分析软件ANSYS,模拟研究等离子喷涂熔滴碰撞基体后的扁平过程,以及熔滴扁平期间晶须在力矩作用下的偏转行为。结果熔滴碰撞基体后,可以观察到熔滴的扁平化过程大约持续1.5μs。在力矩从1×10-18N·m变化到3×10-18N·m时,最大偏转角度从23°增长到70°。结论通过研究熔滴形状和最大扁平速度随时间的变化,得到了扁平化完成时间。熔滴沿基体表面的最大铺展速度与碰撞速度有关。当力矩在一定范围内改变时,晶须发生偏转。
李静王卫泽舒杰
关键词：等离子喷涂晶须
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