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王学林

作品数:1 被引量:2H指数:1
供职机构:浙江晶科能源有限公司更多>>
相关领域:电气工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电气工程

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硅
  • 1篇氮化硅膜
  • 1篇电池
  • 1篇色差
  • 1篇石墨
  • 1篇太阳电池
  • 1篇硅膜
  • 1篇硅太阳电池

机构

  • 1篇长江大学
  • 1篇浙江晶科能源...

作者

  • 1篇涂宏波
  • 1篇高林
  • 1篇王学林
  • 1篇谢斌
  • 1篇马超

传媒

  • 1篇化工中间体

年份

  • 1篇2013
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
晶硅太阳电池氮化硅膜产生色差的影响因素研究被引量:2
2013年
采用管式PECVD的方法对硅片进行氮化硅镀膜,通过分析PECVD镀膜原理,探索了硅片表面均一性、卡点的导电导热性、反应温度的均匀性以及电场均匀性对氮化硅膜色差的影响。结论表明,硅片表面微观结构差异较大会造成比表面积明显差异,从而使氮化硅薄膜厚度产生显著差异,表现出不同颜色。当导电导热性、反应温度的均匀性以及电场均匀性较差时,气体的反应速率差异较大,同一硅片不同区域的氮化硅膜层生长速率不同,膜层厚度也不同,即容易产生色差片。
涂宏波马超王学林谢斌高林
关键词:太阳电池氮化硅色差
共1页<1>
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