耿东生
- 作品数：44 被引量：152H指数：9
- 供职机构：中国科学院兰州化学物理研究所更多>>
- 发文基金：中国航空科学基金陕西省自然科学基金国防基础科研计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术金属学及工艺电子电信更多>>
- 新型超硬C-N薄膜材料被引量：2
- 1998年
- Ｃ－Ｎ薄膜是目前国际上刚刚兴起的一种新型超硬材料。理论上，它的体模量和硬度比金刚石还要高。在半导体和抗磨涂层等领域有着广阔的应用前景。文中介绍了新型Ｃ－Ｎ薄膜材料的发展概况、几种典型的制备方法、结构及性能特点，分析了Ｃ－Ｎ膜的发展方向及其应用前景。
- 张贵锋杨振江耿东生
- 关键词：超硬材料合成工艺
- 长波红外增透保护薄膜的进展被引量：9
- 2001年
- 镀膜是保证红外窗口和头罩使用性能的关键技术。重点结合作者近几年的研究,介绍了类金刚石(DLC)、碳化锗(Ge_xC_(1-x))、磷化物(BP、GaP)、金刚石(Diamond)等几种薄膜材料及其膜系的光学性能。
- 宋建全刘正堂耿东生郑修麟
- 关键词：膜系金刚石薄膜类金刚石薄膜光学性能
- 尺寸、形貌控制的纳米金属电催化剂的合成及其构效关系研究
- 本论文针对甲醇电催化氧化反应中金属活性组分性能与尺寸、型貌关系开展研究，制备了系列单金属(Pt、Au)，双金属(PtAu、PtRu)及多金属(PtRuX，X=Rh、Ir、Pb、Bi)的催化剂，系统地研究了电催化剂对甲醇氧...
- 耿东生
- 关键词：尺寸效应表面形貌构效关系合成工艺
- 热丝化学气相沉积法生长金刚石薄膜的动态模型
- 1998年
- 在用热丝化学气相沉积法生长金刚石薄膜的过程中，具有活性的原子及原子团的输运是一个复杂的动态过程．对此过程提出了一个理论模型，着重研究衬底附近的活化气体原子团的比例随各参数的变化及其对金刚石生长的影响，从而求得在一定的参数空间内理想的金刚石生长区域，以指导金刚石外延的实践．
- 姚文静汪颖梅苏亚凤苏亚凤姚合宝耿东生刘正堂毛翔宇耿东生
- 关键词：化学气相沉积金刚石薄膜生长动态模型HFCVD
- 射频磁控溅射中离子输运的计算机模拟被引量：4
- 2003年
- 采用射频辉光放电等离子体壳层模型和蒙特卡罗法 ,模拟了射频磁控溅射镀膜中工作气体离子 (Ar+)的输运过程 ,得到了离子到达靶面时的入射能量、角度和位置。模拟结果 :对靶材溅射的离子主要来自于溅射坑上方的等离子体区域 ,初始离子的位置分布可通过靶材溅射坑的形貌拟合得到 ;离子的能量主要集中在壳层电压附近 ,离子大多数以垂直入射。模拟与实际相符 ,可用作进一步模拟离子对靶材溅射时的输入参数。
- 李阳平刘正堂耿东生
- 关键词：射频磁控溅射计算机模拟离子输运
- 磁控反应溅射制备Ge_xC_(1-x)薄膜的结构被引量：1
- 2000年
- 利用射频磁控反应溅射以Ar、CH4 为原料气体 ,在较宽的工艺参数范围内制备出了GexC1-x薄膜。利用X射线衍射 (XRD)、X射线光电子谱 (XPS)对制备的薄膜进行了分析。结果表明 ,GexC1-x薄膜的结构强烈依赖于制备的工艺参数。当沉积温度较低、射频功率不大时 ,GexC1-x薄膜主要为非晶态结构。随着沉积温度升高、射频功率增大 ,薄膜中出现Ge微晶相。GexC1-x薄膜中Ge与C发生电荷的转移 ,形成化学键。
- 刘正堂耿东生宋建全朱景芝郑修麟
- 关键词：磁控反应溅射
- 甲醇重整反应中Pt/γ-Al_2O_3催化剂纳米Pt粒径与催化性能关系研究被引量：9
- 2005年
- 利用硝基甲烷还原法在室温条件下得到了纳米Pt粒径可控的担载Pt/γ-Al2O3催化剂,并利用甲醇重整反应为反应探针考察了Pt粒径与催化反应性能之间的关系,发现催化反应的性能与担载贵金属颗粒粒径之间存在明显的相关性.通过透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD)、程序升温还原(TPR)等测试手段对催化剂进行表征,发现钠米Pt的粒径大小不但影响甲醇重整反应的活性,同时也影响反应的选择性,即催化剂的催化性能与担载贵金属粒径之间存在明显的尺度效应.
- 毕迎普吕功煊耿东生毕玉水
- 关键词：重整反应程序升温还原硝基甲烷颗粒粒径粒径大小担载
- Ge_xC_(1-x)薄膜在红外增透保护膜系设计和制备中的应用被引量：12
- 2000年
- 用磁控反应溅射 (RS)法制备出 Gex C1 - x薄膜 ,它的折射率可在 1 .6～ 4.0之间变化 .设计出不同厚度的 Gex C1 - x均匀增透膜系和非均匀增透膜系 ,并在 Zn S基片上制备出 Gex C1 - x均匀增透膜系 .设计结果表明 ,均匀膜系能实现某一波段范围内增透 ,非均匀膜系能实现宽波段增透 ;当厚度增加时 ,均匀增透膜系的透过率曲线变得急剧振荡 ,非均匀膜系的透过率曲线变得更为平滑 ,且向长波段扩展 .实验结果表明 ,在 8～ 1 1 .5 μm波段 ,Zn S基片双面镀 Gex C1 - x均匀增透膜系后平均透过率为 90 .4% ,比未镀膜的 Zn S基片 (平均透过率为 73.9% )净增加 1 6 .5 % .
- 宋建全刘正堂于忠奇耿东生郑修麟
- 靶材溅射及溅射原子输运的计算机模拟被引量：10
- 2003年
- 用软件SRIM及蒙特卡罗法综合模拟了靶材溅射及溅射原子输运的过程。模拟结果包括溅射原子输运到衬底时的能量、入射角和入射位置。由模拟结果知,溅射原子输运主要受P×d影响(P为真空室气压,d为靶基距),P×d愈大输运到衬底的溅射原子愈少,且能量愈小;溅射原子到达衬底时,能量集中在几电子伏范围内,且在能量很低的区域有分布峰;角度分布主要集中在垂直方向,这与从靶面出射时的分布相似,但垂直方向的分布有所减小;位置分布与从靶面出射时相比,分布范围在径向扩大、趋于均匀化,但主要在靶直径范围内。
- 李阳平刘正堂耿东生
- 关键词：计算机模拟蒙特卡罗法SRIM
- 立方晶系孪晶电子衍射谱的微机程序
- 1990年
- 耿东生高山严芳
- 关键词：立方晶系孪晶
