宋龙龙
- 作品数：7 被引量：8H指数：2
- 供职机构：南京航空航天大学更多>>
- 发文基金：中国博士后科学基金江苏省博士后科研资助计划项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程金属学及工艺更多>>
- 固结磨料化学机械抛光铜的加工方法
- 一种固结磨料化学机械抛光铜的加工方法，其特征是采用氧化铈固结磨料抛光垫对铜或铜膜进行抛光加工，控制抛光温度在10~30℃，抛光压力控制在10~50 kPa，抛光液由不含磨料的去离子水、表面活性剂、抑制剂、配位剂、pH调节...
- 李军黄建东朱永伟左敦稳宋龙龙
- 文献传递
- 软脆晶体CaF2固结磨料抛光研究
- 氟化钙（CaF2）晶体具有透射范围宽、优异的消色差和复消色差等特性，主要应用于高能探测、红外追踪和光学元件等领域。特别是在紫外光学系统中，CaF2晶体以独特的性能成为光刻系统和高能量激光系统的首选透镜材料。然而，CaF2...
- 宋龙龙
- 关键词：半导体材料氟化钙晶体表面抛光
- 一种固结磨料化学机械抛光钽的加工方法
- 一种固结磨料化学机械抛光钽（Ta）的加工方法，其特征是包括：采用氧化铈固结磨料抛光垫对钽或钽膜进行抛光加工，加工过程中控制抛光压力在10~100kpa之间，抛光盘的转速控制在50~150rpm之间，抛光液为不含磨料的去离...
- 李军宋龙龙朱永伟左敦稳黄建东
- 固结磨料化学机械抛光铜的加工方法
- 一种固结磨料化学机械抛光铜的加工方法，其特征是采用氧化铈固结磨料抛光垫对铜或铜膜进行抛光加工，控制抛光温度在10~30℃，抛光压力控制在10~50kPa，抛光液由不含磨料的去离子水、表面活性剂、抑制剂、配位剂、pH调节剂...
- 李军黄建东朱永伟左敦稳宋龙龙
- 文献传递
- 固结磨料抛光LBO晶体非水基抛光液优化
- 2016年
- 三硼酸锂(LBO)晶体是优良的非线性光学晶体材料,抛光后晶体表面水份残留导致晶体潮解,影响器件的使用性能。采用非水基抛光液固结磨料抛光LBO晶体,降低水含量,研究非水基抛光液中去离子水、乳酸、双氧水等含量对材料去除率和表面粗糙度的影响,并综合优化得到高材料去除率和优表面质量的抛光液组分。研究表明,抛光液中去离子水浓度16%、乳酸22%、双氧水5%为最优抛光液组分,采用优化的抛光液固结磨料抛光LBO晶体的材料去除率达到392nm/min,表面粗糙度为0.62nm,实现了LBO晶体表面的高效高质量抛光,同时避免了抛光过程中水的大量使用。
- 宋龙龙李军王文泽胡章贵朱永伟左敦稳
- 关键词：材料去除率表面粗糙度
- 抛光液酸碱性对固结磨料抛光硫化锌晶体的影响被引量：3
- 2016年
- 硫化锌晶体是一种重要的红外光学材料,在红外成像、导弹制导、红外对抗等红外技术领域应用广泛。抛光液能够与工件及抛光垫发生化学反应从而影响工件表面质量和材料去除率。实验采用乙二胺、氢氧化钠、柠檬酸、盐酸分别配制不同的酸碱性抛光液,研究抛光液酸碱性对固结磨料抛光硫化锌晶体材料去除率、表面形貌和表面粗糙度的影响。实验结果表明:酸性抛光液抛光的材料去除率高于碱性抛光液;柠檬酸抛光液可同时获得优表面质量和高加工效率,抛光后的晶体表面粗糙度Sa值为4.22 nm,材料去除率为437 nm/min。
- 黄建东李军宋龙龙花成旭胡章贵朱永伟左敦稳
- 关键词：抛光液硫化锌表面粗糙度材料去除率
- 一种固结磨料化学机械抛光钽的加工方法
- 一种固结磨料化学机械抛光钽（Ta）的加工方法，其特征是包括：采用氧化铈固结磨料抛光垫对钽或钽膜进行抛光加工，加工过程中控制抛光压力在10~100 kpa之间，抛光盘的转速控制在50~150 rpm之间，抛光液为不含磨料的...
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