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王波雷

作品数：33 被引量：0H指数：0
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 33篇中文专利

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 18篇硅片
  • 10篇硅片清洗
  • 9篇夹持
  • 6篇旋转轴
  • 6篇转轴
  • 6篇卡盘
  • 5篇湿法
  • 4篇喷淋
  • 3篇单片
  • 3篇底面
  • 3篇电磁铁
  • 3篇电路
  • 3篇电路技术
  • 3篇电气部件
  • 3篇压差
  • 3篇圆筒形
  • 3篇声波
  • 3篇声波换能器
  • 3篇死区
  • 3篇同步带

机构

  • 33篇北京七星华创...

作者

  • 33篇王波雷
  • 23篇张豹
  • 15篇姬丹丹
  • 12篇李伟
  • 12篇吴仪
  • 12篇王浩
  • 6篇张享倩
  • 3篇朱攀
  • 3篇张晓红
  • 3篇马嘉
  • 2篇高浩

年份

  • 2篇2017
  • 3篇2016
  • 4篇2015
  • 6篇2014
  • 12篇2013
  • 6篇2012
共 33 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种排风装置
本发明涉及硅片湿法清洗领域，尤其涉及一种排风装置。该排风装置包括底腔、兆声波装置盛液槽、兆声波装置盛液槽固定支架、夹层及排风调整单元，所述底腔固定于所述夹层顶部，所述兆声波装置盛液槽通过兆声波装置盛液槽固定支架固定于所述...
王波雷王锐廷张豹姬丹丹
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夹持平面盘状物的装置
本实用新型公开了一种夹持平面盘状物的装置，涉及半导体技术领域，所述装置包括：圆柱形的旋转主体、两组夹持元件、圆筒形的电磁铁保持架、以及若干电磁铁，所述两组夹持元件通过基座安装于所述旋转主体的侧壁上，所述两组夹持元件通过旋...
吴仪张豹王波雷张晓红王锐廷
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一种自清洗腔体
本实用新型涉及硅片清洗领域，尤其涉及一种自清洗腔体，其包括壳体、喷水嘴和排液口。其中，喷水嘴安装在壳体外部，排液口在壳体底部。喷水嘴有上下两排，其上下位置面对面正对。进液软管的一端在喷水嘴内，没有伸入喷水嘴的部分安装有调...
张享倩王波雷姬丹丹李伟王浩
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清洗兆声波换能器的装置
本发明公开了一种清洗兆声波换能器的装置，该装置包括清洗槽、挡流板和隔流板，所述清洗槽的两侧面对应设置有液体入口和液体出口，液体入口侧设置有气体入口，所述挡流板设置在清洗槽内液体入口前，所述挡流板底部设置多个排流孔，所述隔...
姬丹丹王波雷李伟张享倩王浩
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具有限位结构的盘状物夹持装置
本实用新型公开了一种盘状物夹持装置，包括放置盘状物的旋转卡盘；带动旋转卡盘旋转的旋转轴；以及驱动旋转轴旋转的驱动机构。旋转卡盘包括基体，设于基体周缘的夹持元件，环形体以及限位结构。夹持元件包括主体部及夹持部，主体部自旋转...
姬丹丹王锐廷马嘉王波雷张豹
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用于薄片盘状物的清洗装置及方法
本发明提供了一种用于薄片盘状物的清洗装置及方法，属于半导体工艺制造领域，在工艺腔内设置低速收集环和至少一个高速收集环，通过调整高速收集环的高低档位，在工艺腔内划分不同的排液通道，减少清洗介质因交叉污染对硅片清洗工艺带来不...
王波雷张豹朱攀王锐廷
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一种排风装置
本发明涉及硅片湿法清洗领域，尤其涉及一种排风装置。该排风装置包括底腔、兆声波装置盛液槽、兆声波装置盛液槽固定支架、夹层及排风调整单元，所述底腔固定于所述夹层顶部，所述兆声波装置盛液槽通过兆声波装置盛液槽固定支架固定于所述...
王波雷王锐廷张豹姬丹丹
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一种喷淋装置
本发明公开了一种喷淋装置，包括：喷淋头、旋转执行机构、升降执行机构和用于容纳喷淋药液的盛接槽，所述喷淋头通过旋转执行机构与升降执行机构连接。本发明的喷淋装置，可使整个清洗工艺过程连贯，减少制造成本、以及设备故障发生率并且...
王波雷吴仪李伟王浩张豹
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一种具有限位结构的盘状物夹持装置
本发明公开了一种盘状物夹持装置，包括放置盘状物的旋转卡盘；带动旋转卡盘旋转的旋转轴；以及驱动旋转轴旋转的驱动机构。旋转卡盘包括基体，设于基体周缘的夹持元件，环形体以及限位结构。夹持元件包括主体部及夹持部，主体部自旋转而使...
姬丹丹王锐廷马嘉王波雷张豹
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用于薄片盘状物的清洗装置及方法
本发明提供了一种用于薄片盘状物的清洗装置及方法，属于半导体工艺制造领域，在工艺腔内设置低速收集环和至少一个高速收集环，通过调整高速收集环的高低档位，在工艺腔内划分不同的排液通道，减少清洗介质因交叉污染对硅片清洗工艺带来不...
王波雷张豹朱攀王锐廷
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