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文献类型

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领域

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主题

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  • 1篇正向压降
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  • 1篇双极
  • 1篇双金属
  • 1篇器件芯片
  • 1篇无损检测
  • 1篇结温
  • 1篇金属
  • 1篇晶体管

机构

  • 5篇中国电子科技...

作者

  • 5篇程春红
  • 3篇潘茹
  • 2篇黄雒光
  • 2篇许洋
  • 1篇潘宏菽
  • 1篇刘红兵
  • 1篇霍彩红
  • 1篇许洋

传媒

  • 3篇半导体技术

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2014
  • 2篇2011
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
双极大功率晶体管背面工艺优化被引量:1
2014年
针对双极大功率晶体管批量生产时,存在的晶体管基极-集电极(BC)之间正向压降偏大且一致性较差的现象,对影响功率晶体管BC正向压降的因素进行了分析,并进行了相应的工艺实验,优化了工艺条件。实验结果表明,影响功率晶体管BC结正向压降的是背面减薄工艺和背面金属化工艺前的清洗工艺,芯片背表面的状态是影响器件BC正向压降的主要因素,优化后功率晶体管的BC正向压降优于指标要求,提高了批次间芯片参数的一致性,确保了双极大功率晶体管的工作稳定性。
霍彩红潘宏菽刘相伍程春红
关键词:非均匀性
替代氢气炉进行芯片烧结的方法
本发明公开了一种替代氢气炉进行芯片烧结的方法,涉及硅半导体器件芯片的烧结方法技术领域。包括以下步骤:1)对硅片的背面进行金属化处理;2)当加热平台处于恒温时,将封装载体置于充满保护气的加热平台内进行预热;3)将进行背面金...
潘茹黄雒光潘仙玲程春红许洋
替代氢气炉进行芯片烧结的方法
本发明公开了一种替代氢气炉进行芯片烧结的方法,涉及硅半导体器件芯片的烧结方法技术领域。包括以下步骤:1)对硅片的背面进行金属化处理;2)当加热平台处于恒温时,将封装载体置于充满保护气的加热平台内进行预热;3)将进行背面金...
潘茹黄雒光潘仙玲程春红许洋
文献传递
Au-Al双金属键合可靠性分析被引量:6
2011年
键合是半导体器件生产过程中的关键工序,对器件的产品合格率和长期使用的可靠性影响很大。在半导体器件中Au-Al键合系统的失效现象屡有发生,但又不可避免的使用,因此Au-Al双金属键合的可靠性备受人们的关注。通过分析Au-Al双金属键合的失效机理,提出了Au-Al双金属键合的正确设计方法及工艺控制措施,给出了多个批次多个品种的Au-Al双金属键合的实际使用结果。研究表明,只要设计正确,采用有效的工艺控制措施,在结温150℃以下使用,采用Au-Al双金属的器件仍然可以应用在高可靠场所。
程春红许洋刘红兵
关键词:关键工序结温
X射线照相发现的管壳缺陷分析
2011年
现在对半导体器件的可靠性要求越来越高,因此对器件的质量检测提出了严格的要求,为了能准确检测器件质量是否合格,使用X射线检测技术对器件进行无损检测。X射线对缺陷损伤做快速精确探测分析具有方便、直观等优点。对一例不常见的X射线照相检查发现的晶体管空洞缺陷进行了分析、试验,确定空洞是由管壳存在的问题引起的,提出了解决空洞问题的措施。说明了器件在筛选时进行X射线照相检查的必要性,可以将有缺陷的器件早期剔除,以保证器件的可靠性。
程春红潘茹
关键词:可靠性无损检测X射线
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