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沈艳波

作品数:6 被引量:3H指数:1
供职机构:北京理工大学更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺理学更多>>

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇理学

主题

  • 3篇输运
  • 2篇电化学
  • 2篇电化学法
  • 2篇电子背散射衍...
  • 2篇形貌特征
  • 2篇射线衍射
  • 2篇热离子
  • 2篇自动变焦
  • 2篇离子
  • 2篇晶面
  • 2篇化学法
  • 2篇化学腐蚀
  • 2篇变焦
  • 2篇X射线衍射
  • 1篇气相沉积
  • 1篇微观组织分析
  • 1篇位错
  • 1篇位错密度
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积

机构

  • 6篇北京理工大学
  • 1篇中国航天

作者

  • 6篇沈艳波
  • 5篇于晓东
  • 5篇谭成文
  • 2篇周倩
  • 2篇张松
  • 2篇张鹏杰
  • 1篇才鸿年
  • 1篇王富耻
  • 1篇马红磊

传媒

  • 1篇中国有色金属...

年份

  • 1篇2019
  • 2篇2016
  • 3篇2015
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
化学输运法制备钨单晶涂层的微观组织分析
热离子能量转换器发射极材料需要长时间工作于1500°C以上的高温环境,采用W-WClx-Cl体系的化学输运法能够制备满足热离子能量转换器使用要求的钨单晶涂层。根据目前所掌握的文献资料,尽管国内外学者对于化学输运法制备钨单...
沈艳波
关键词:位错密度
文献传递
化学输运法制备钨单晶涂层的结构表征
本文采用真空条件下的化学气相输运沉积(CVTD技术)在钼单晶棒表面制备得到具有特定晶体学取向的钨单晶涂层,通过多种测试方法对钨单晶的结构完整性进行了表征。
沈艳波于晓东谭成文张红秀许玲玉蔡峰成
关键词:X射线衍射电子背散射衍射
化学输运法制备钨单晶涂层的结构表征
本文采用真空条件下的化学气相输运沉积(CVTD技术)在钼单晶棒表面制备得到具有特定晶体学取向的钨单晶涂层,通过多种测试方法对钨单晶的结构完整性进行了表征。利用X射线衍射(XRD)对获得的钨单晶涂层进行了晶向偏离角和半高宽...
沈艳波于晓东谭成文张红秀许玲玉蔡峰成
关键词:X射线衍射电子背散射衍射
文献传递
一种钨单晶涂层{110}晶面识别和表面份额的统计方法
本发明涉及一种钨单晶涂层{110}晶面识别和表面份额的统计方法,属于热离子型燃料电池技术领域,特别是能够指导电化学蚀刻工艺参数的优化。本发明包括用化学腐蚀识别钨单晶{110}晶面、统计{110}晶面所占份额和用电化学法提...
张鹏杰郭雨竹周倩史佳庆么斯雨张松沈艳波于晓东谭成文
一种钨单晶涂层{110}晶面识别和表面份额的统计方法
本发明涉及一种钨单晶涂层{110}晶面识别和表面份额的统计方法,属于热离子型燃料电池技术领域,特别是能够指导电化学蚀刻工艺参数的优化。本发明包括用化学腐蚀识别钨单晶{110}晶面、统计{110}晶面所占份额和用电化学法提...
张鹏杰郭雨竹周倩史佳庆么斯雨张松沈艳波于晓东谭成文
文献传递
化学气相沉积钨显微组织缺陷的形成与控制被引量:3
2015年
以WF6为前驱体,采用化学气相沉积法(CVD)在纯铜基体上沉积出钨涂层。利用光学显微镜(OM)和扫描电镜(SEM)分析研究钨制品组织缺陷的形成。结果表明:反应物浓度起伏对化学气相沉积钨的显微组织具有显著影响。当n(WF6):n(H2)≥1:3时,沉积物为柱状晶组织;当n(WF6):n(H2)<1:3时,该沉积层晶粒明显细化,显微组织为细晶层状结构。另外,沉积过程中杂质形状也显著影响沉积层的显微组织。当基体表面存在一维杂质时,沉积制品表面产生明显的凸起,严重影响制品的表面质量和显微组织的均匀性;当沉积过程中存在零维杂质时,沉积层出现放射状的组织结构。
沈艳波于晓东谭成文王富耻马红磊才鸿年
关键词:化学气相沉积
共1页<1>
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