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程世德

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 5篇涂层
  • 3篇气相沉积
  • 2篇氮化
  • 2篇氮化钛
  • 2篇物理气相沉积
  • 2篇显微硬度
  • 2篇耐磨
  • 2篇耐磨涂层
  • 2篇溅射
  • 2篇TIN涂层
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇电子显微镜
  • 1篇电子显微镜分...
  • 1篇断口检查
  • 1篇硬质
  • 1篇硬质合金
  • 1篇涂层厚度
  • 1篇涂油
  • 1篇热挤压

机构

  • 5篇北京有色金属...

作者

  • 5篇张学华
  • 5篇程世德
  • 2篇石东奇
  • 2篇王东辉
  • 2篇王裕昌

传媒

  • 1篇稀有金属
  • 1篇全国首届材料...
  • 1篇中国金属学会...

年份

  • 1篇1991
  • 1篇1990
  • 3篇1986
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
物理气相沉积用杆状基体夹持装置
物理气相沉积用的杆状基体夹持装置用于向挤压针表面上沉积TiN、TiC、WC等超硬涂层，它主要包括移动小车及其传动装置，夹具及其传动装置，使挤压针同时作自转、公转和平移运动。该装置的优点是使涂层厚度均匀致密；可同时夹持多个...
张学华王东辉程世德王裕昌石东奇
文献传递
磁控溅射TiN涂层的工艺参数及特征
张学华程世德陈观吾
关键词：涂层气相沉积氮化钛显微硬度相分析磁控溅射
带涂层的挤压工模具及其制造方法
本发明提出了一种适合热挤压管材用的带涂层的工模具及其制造工艺，设计的工模具由基材，基材上气相沉积的中间层及中间层上的耐磨涂层组成，中间层为高氮的氮化钛层，厚度为0-1微米。采用物理气相沉积工艺分别在基材上进行沉积。通过控...
张学华王裕昌石东奇程世德王东辉
文献传递
反应磁控溅射TiN涂层的工艺参数反涂层特征
应磁控溅射技术在硬质合金表面沉积TiN涂层，最高显微硬度达到4000Kgf/mm以上。通过多因素多水平正交设计实验研究了工艺参数与显微硬度反晶体学取向间关系，并对不同硬质合金的TiN涂层作了比较。用Auger扫描显微探...
张学华程世德
关键词：涂层显微硬度电子显微镜分析断口检查溅射磁控溅射
硬质合金PVD涂层技术的发展
1986年
本文简要介绍了世界发达国家PVD(物理气相沉积)涂层刀具的发展趋势。对可用于硬质合金涂层的三种PVD技术、涂层的组织结构特征、性能进行了评述,同时与未涂屡、CVD(化学气相沉积)涂层作了比较。
张学华程世德
关键词：PVDCVD耐磨涂层硬质合金
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