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牛博
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14
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电子科技大学
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相关领域:
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合作作者
任敏
电子科技大学
李泽宏
电子科技大学
张波
电子科技大学
蔡果
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高巍
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牛博
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蔡果
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2019
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2016
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一种具有超势垒结构的高压二极管设计
在本文中,将超势垒结构运用到高压二极管中,提出一种具有超势垒结构的高压二极管,并利用寿命控制实验优化其动态特性。研究内容主要围绕一种具有超势垒结构的高压二极管的研制工作。 从功率整流器的应用出发,介绍功率整流器的发展动...
牛博
关键词:
高压二极管
一种VDMOS器件及其制造方法
本发明涉及半导体器件技术领域,具体为一种具有较低米勒电容的VDMOS器件及其制造方法。本发明采用的技术方案主要为在栅极下方的外延层中设置填充有氧化物的沟槽,使栅极控制在厚氧化层介质之上,减小控制栅末端位置产生的半导体表面...
任敏
蔡果
杨珏琳
牛博
郭绪阳
曹晓峰
李泽宏
高巍
张金平
张波
文献传递
一种横向RC-IGBT器件
本发明属于半导体技术领域,具体的说涉及一种横向RC‑IGBT器件。本发明的器件在传统的器件结构上,在集电极结构设置了N型电阻区电阻区11,由于薄N电阻区11区域很薄具有大的阻抗,在器件刚开始正向导通时,在较小的电流下就会...
任敏
郭绪阳
杨珏琳
蔡果
牛博
李泽宏
张金平
高巍
张波
文献传递
一种纵向RC-IGBT器件
本发明属于半导体技术领域,具体的说涉及一种纵向RC-IGBT器件。本发明的器件,在传统的器件结构上,在集电极结构中设置了N型电阻区11,由于薄N电阻区11区域很薄具有大的阻抗,在器件刚开始正向导通时,在较小的电流下就会在...
任敏
杨珏琳
郭绪阳
蔡果
牛博
李泽宏
张金平
高巍
张波
文献传递
一种非均匀超结结构的制作方法
本发明涉及半导体工艺制造技术领域,具体的说是涉及一种非均匀超结结构的制作方法。本发明的方法为通过对体硅刻蚀之前淀积的光刻胶进行处理,采用多张掩膜板多次叠加曝光,使得待刻蚀区域的光刻胶具有不同的厚度。在随后进行体硅刻蚀中,...
任敏
王为
姚鑫
韩天宇
杨珏琳
牛博
李泽宏
张金平
高巍
张波
一种能抑制负阻效应的SA-LIGBT
本发明涉及功率半导体技术,特别涉及一种能抑制负阻效应的SA-LIGBT。本发明的主要方法是:在P型集电区和N型集电区的电极接触之间产生一个适当阻值的金属电阻,并且金属电阻的阻值可以通过调节金属电阻的面积和长度来控制。在器...
任敏
刘永
杨珏琳
蔡果
牛博
伍济
朱章丹
陈海文
李泽宏
张波
一种能抑制负阻效应的RC-IGBT
本发明涉及功率半导体技术,特别涉及一种能抑制负阻效应的RC-IGBT。本发明的主要方法是:通过对在P型集电区和N型集电区的电极接触之间产生一个适当阻值的金属电阻,在器件正向导通时,电流I<Sub>F</Sub>流过此金属...
任敏
刘永
蔡果
杨珏琳
牛博
朱章丹
陈海文
李泽宏
张波
一种非均匀超结结构的制作方法
本发明涉及半导体工艺制造技术领域,具体的说是涉及一种非均匀超结结构的制作方法。本发明的方法为通过对体硅刻蚀之前淀积的光刻胶进行处理,采用多张掩膜板多次叠加曝光,使得待刻蚀区域的光刻胶具有不同的厚度。在随后进行体硅刻蚀中,...
任敏
王为
姚鑫
韩天宇
杨珏琳
牛博
李泽宏
张金平
高巍
张波
文献传递
一种能抑制负阻效应的SA‑LIGBT
本发明涉及功率半导体技术,特别涉及一种能抑制负阻效应的SA‑LIGBT。本发明的主要方法是:在P型集电区和N型集电区的电极接触之间产生一个适当阻值的金属电阻,并且金属电阻的阻值可以通过调节金属电阻的面积和长度来控制。在器...
任敏
刘永
杨珏琳
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牛博
伍济
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李泽宏
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一种具有低米勒电容的VDMOS器件结构及其制备方法
本发明提供一种低米勒电容的VDMOS器件结构及其制作方法。其器件结构的多晶硅栅分控制栅和屏蔽栅两部分,其中位于沟道上的多晶硅栅称为控制栅,控制沟道开启和关断,而位于厚场氧层上面的多晶硅与源电极相连或不相连,称为屏蔽栅。所...
李泽宏
牛博
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