吴传超
- 作品数：8 被引量：10H指数：2
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- 相关领域：理学电子电信一般工业技术文化科学更多>>
- 晶体的定偏心平面CMP均匀性研究
- 2015年
- 晶体的化学机械抛光(CMP)加工中存在工件的表面平整度差的问题。晶体平整度差,两块晶体在真空压合的过程中就会导致晶体被压裂甚至压碎,晶体表面出现任何微小的缺陷都会造成压合的失败,晶体的压合对于晶体表面的平整度要求非常高,因此本文针对这一现象提出一种定偏心平面CMP方式,通过此种被动驱动式平面CMP方法,合理选择CMP及偏心距的参数,使得被加工晶体(Zn Se)的表面粗糙度值达到0.846 nm,平面面形误差小于1.178μm。
- 王志斌吴传超安永泉赵同林解琨阳刘顺
- 关键词：CMP均匀性
- 压电换能器等效模型分析与阻抗匹配设计被引量：3
- 2016年
- 声光可调滤光器(Acousto-optic tunable filter,AOTF)的衍射效率不仅与功率信号源的质量、声光晶体氧化碲(TeO_2)的切型有关,而且压电超声换能器的结构以及其阻抗匹配网络也对AOTF的衍射效率有很大影响。本文对X切型铌酸锂(LiNbO_3,LN)四层镀膜压电超声换能器的等效模型进行了分析,确定了声光介质存在时换能器的阻抗特性,利用射频微波仿真软件,设计了电感-电容复合匹配网络。将换能器压合在TeO_2上,用复色光作为光源进行了声光衍射实验,经仿真与实验验证表明,该匹配电路可以有效的改善压电换能器的阻抗特性,提高换能器带宽,提高能量传输效率,AOTF衍射效率最高可达92.67%。
- 李晓宋雁鹏王志斌杨常青薛锐于慧吴传超
- 关键词：AOTF声光压电换能器阻抗匹配
- 基于眼前眼后光路切换的OCT成像系统及眼轴测量方法
- 本发明公开了一种基于眼前眼后光路切换的OCT成像系统及眼轴测量方法，系统包括：高速扫频光源、90:10的光纤耦合器、两个环形器、偏振控制器、50:50的光纤耦合器、参考臂模块、样品臂模块、平衡探测器、图像信号采集卡、振镜...
- 吴传超李晓晨王志斌薛鹏
- 一种用于晶体化学机械研磨减薄的装置及其使用方法
- 本发明涉及机械研磨减薄技术领域，更具体而言，涉及一种用于铌酸锂、石英、蓝宝石等晶体的化学机械研磨减薄的装置及其使用方法；提供一种晶体的化学机械研磨减薄的装置及激光反射校准法，实现对晶体的上下两个面的平行度的高精度校准，减...
- 王志斌吴传超安永泉杨常青薛锐宋雁鹏赵同林解琨阳
- 文献传递
- 一种用于晶体化学机械研磨减薄的装置及其使用方法
- 本发明涉及机械研磨减薄技术领域，更具体而言，涉及一种用于铌酸锂、石英、蓝宝石等晶体的化学机械研磨减薄的装置及其使用方法；提供一种晶体的化学机械研磨减薄的装置及激光反射校准法，实现对晶体的上下两个面的平行度的高精度校准，减...
- 王志斌吴传超安永泉杨常青薛锐宋雁鹏赵同林解琨阳
- 硒化锌的化学机械抛光研究被引量：7
- 2015年
- 采用化学机械抛光(CMP)的方法,自制抛光液作为研磨介质,对(50×50×1.5)mm3硒化锌(ZnSe)晶片抛光。通过分析抛光液的pH值、抛光盘转速、抛光液的磨料浓度、压力、抛光时间和抛光液流量等参数对CMP的影响,组合出最佳工艺参数,并通过原子力显微镜和平晶测试方法对最佳工艺参数获得的ZnSe晶片进行测试,实验结果显示,ZnSe晶片抛光后的表面粗糙度Ra为0.578 nm,平面面形误差小于1.8μm。
- 吴传超安永泉王志斌杨常青张瑞
- 关键词：化学机械抛光表面粗糙度
- 一种基于迈克逊干涉的镜片多参数综合测量装置及方法
- 本发明属于镜片参数测量技术领域，具体涉及一种基于迈克逊干涉的镜片多参数综合测量装置及方法，包括绿光LED光源、红光LED光源、蓝光LED光源、紫光LED光源、四合一光纤合束器、准真透镜、半透半反镜、待测镜片、哈特曼光阑、...
- 张瑞王志斌薛鹏王耀利吴传超
- 声光可调谐滤波器的加工工艺研究
- 光谱成像技术兼备空间分辨能力和光谱分辨能力，同时也将图像分析技术和光谱分析技术紧密联系起来。近几年，光谱成像技术在军事侦察、农业生产、前沿医学等的应用远景得到了许多研究学者的青睐。 声光可调谐滤波器（Acousto-o...
- 吴传超
- 关键词：声光可调谐滤波器真空镀膜压电换能器
