徐学锋
- 作品数：29 被引量：14H指数：2
- 供职机构：北京林业大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
- 相关领域：机械工程文化科学理学一般工业技术更多>>
- 一种四轴射流抛光机
- 本发明涉及抛光机技术领域，公开了一种四轴射流抛光机，包括溶液存储罐、隔膜泵、管路、喷嘴缓冲管、喷嘴和收集箱；所述溶液存储罐内盛放射流溶液，收集箱设置在溶液存储罐上方；工件设置在收集箱内，并与收集箱的入口位置相对应，所述收...
- 徐学锋张玉张羽
- 文献传递
- 一种磁性液体水平倾角传感器
- 一种磁性液体水平倾角传感器，属于机械工程领域。该装置包括：永磁体1(两块)，磁性液体2，线圈3(两组)，侧段惯性质量块4(两块)，中段惯性质量块5，软磁材料镀层6，圆柱形磁性液体容器7，支撑杆8，线圈与永磁体支架9与其壳...
- 张宏业刘文钊刘晋浩徐学锋
- 一种摩擦和加压检测试验台
- 本发明涉及精密操作技术领域，公开了一种摩擦和加压检测试验台，包括加压模块、摩擦力检测模块、平移模块、升降模块和旋转模块；所述加压模块用于进行施加压力；所述摩擦力检测模块设置在加压模块的下方，用于夹持试样并对试样受到的摩擦...
- 徐学锋赵晨希张广杰
- 文献传递
- 射流抛光试验平台柔性加减速控制算法应用研究被引量：5
- 2015年
- 目的提高射流抛光实验平台在小尺寸对象加工中的柔性及平稳性。方法将七段式S型加减速控制算法应用于射流抛光实验平台控制系统,为验证其性能,将Matlab算法仿真结果,与基于RT-LINUX的开放式数控系统中的算法实验结果,以及T型与S型等2种加减速控制算法实验结果进行对比。结果与T型加减速控制算法相比,采用S型加减速时加工时间较长,但其速度变换平稳、误差小。结论 S型加减速控制方式在射流抛光实验平台的应用中可显著平滑速度,提高其稳定性及柔性加工性能。
- 李婷黄河山徐学锋潘言刘晋浩
- 关键词：稳定性
- 紫外纳秒激光加工高深宽比且高一致性微槽的研究被引量：1
- 2024年
- 高深宽比微槽广泛应用于生物学以及电子学等各领域。然而,在制备高深宽比微槽时,微槽的一致性仍然是一个技术上的难题。通过一种新颖的多次扫描技术,利用355纳米纳秒激光成功制备了同时具有高深宽比和高一致性的微槽。研究了脉冲能量、离焦量和扫描次数对微槽深度和宽度的影响。结果表明:略微增加负离焦量和脉冲能量可以显著提高微槽的深宽比,但过大的脉冲能量会导致一致性下降。提出一种多次扫描的方法,通过在每次扫描的同时调整激光离焦量,制备了一组高深宽比且高一致性的微槽。所获得的微槽的平均深宽比高达6.84,深度和宽度的一致性也得到了显著提高。深度和宽度的相对标准偏差分别低至4.8%、4.4%。由于其高深宽比和高一致性,这些微槽有望在生物医学科学、3D微型电池和超疏水表面等领域得到广泛应用。
- 祝绍康史雪松徐龙飞徐学锋
- 关键词：高深宽比一致性微槽
- 一种磁性液体水平倾角传感器
- 一种磁性液体水平倾角传感器，属于机械工程领域。该装置包括：永磁体1(两块)，磁性液体2，线圈3(两组)，侧段惯性质量块4(两块)，中段惯性质量块5，软磁材料镀层6，圆柱形磁性液体容器7，支撑杆8，线圈与永磁体支架9与其壳...
- 张宏业刘文钊刘晋浩徐学锋
- 冲击角度对射流抛光中材料去除的影响被引量：2
- 2017年
- 射流抛光技术能够获得原子级粗糙度和无损伤表面,已成为最具发展潜力的超光滑表面加工技术之一,而冲击角度是影响抛光效果的一个重要参数。利用自主研制的射流抛光实验机,通过定点冲击实验,研究不同冲击角度下的被加工表面材料去除形貌及去除量。实验结果表明,随着冲击角度的减小,材料去除形状愈发不对称,材料去除率逐渐降低,而最大去除深度出现非单调变化。结合冲击射流流场分布和颗粒碰撞角度的变化,分析冲击角度对材料去除特性的影响机制,发现射流冲击角度对材料去除的影响主要归因于射流中颗粒碰撞角度及颗粒碰撞次数的变化;颗粒碰撞角度越大,碰撞次数越多,则材料去除量越大;两者的综合作用影响着材料去除量及材料去除分布。
- 张玉郭团辉李雪婵黄一峻徐学锋马丽然雒建斌
- 一种摩擦发光发生与采集系统
- 本发明涉及一种摩擦发光发生与采集系统，该系统包括暗箱、控制电路板、温度传感器、湿度传感器、加湿器、摩擦装置、电机驱动器、风扇、光谱仪和PC机；摩擦装置产生摩擦，并采用光纤探头和光纤将光信号输出给PC机绘出光谱图，PC机通...
- 徐学锋高飞王敏
- 文献传递
- 颗粒粒径对射流抛光中材料去除的影响
- 2017年
- 射流抛光技术中,抛光液中颗粒粒径是影响抛光效果的非常重要的一个参数。利用自主研制的射流抛光实验机,采用定点冲击实验研究不同颗粒粒径下的被抛光表面的材料去除特性。实验结果表明,不同颗粒粒径定点冲击时工件表面材料去除均呈圆环状。随着颗粒粒径的增大,材料最大去除深度与材料去除体积呈单调非线性增加,这说明射流的材料去除能力随着颗粒粒径的增大而显著增加。但是,研究结果也表明材料最大去除的位置与射流中颗粒粒径无关,基本保持不变。研究结论有助于深入理解射流抛光中的材料去除机理。
- 张玉徐学锋
- 关键词：颗粒粒径
- 一种四轴射流抛光机
- 本实用新型涉及抛光机技术领域，公开了一种四轴射流抛光机，包括溶液存储罐、隔膜泵、管路、喷嘴缓冲管、喷嘴和收集箱；所述溶液存储罐内盛放射流溶液，收集箱设置在溶液存储罐上方；工件设置在收集箱内，并与收集箱的入口位置相对应，所...
- 徐学锋张玉张羽
- 文献传递
