王延超
- 作品数：23 被引量：12H指数：2
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程文化科学更多>>
- 用于非球面检验的激光直写高精度计算全息图制作被引量：4
- 2014年
- 为实现高精度非球面的面形误差检测,对激光直写计算全息图(CGH)的关键技术进行研究。以获得最小线宽偏差为目的,通过基础工艺实验,探究离焦量对光刻胶上线宽的影响;研究湿法刻蚀过程对不同线宽引入的展宽规律;分析线宽误差与位置误差关系,得到CGH不同周期位置误差引入的波前误差。根据实验结果,制作最小线宽1.8 mm,直径80 mm的振幅型CGH。检测结果表明,波前误差均方根值为0.011l,达到l/100量级,可用于高精度非球面的检测。
- 赵龙波张志宇朱德燕王延超郑立功张学军
- 关键词：全息线宽
- 一种阵列式窄带滤光片及其制备方法
- 本发明涉及一种阵列式窄带滤光片，包括基底和相互杂化嵌套在基底上的第一光栅和第二光栅，第一光栅和第二光栅构成等离激元复合光栅，等离激元复合光栅周期为第一光栅和第二光栅的宽度之和；第一光栅沿着基底由下而上依次包括底部金属层、...
- 高劲松高劲柏王笑夷杨海贵刘海王延超
- 文献传递
- RB-SiC基底表面改性层的制备装置及方法
- 本发明涉及一种RB‑SiC基底表面改性层的制备装置及方法，制备装置包括挡片和驱动件，挡片安装在溅射阴极和RB‑SiC基底之间，并跟随溅射阴极同步移动；驱动件与挡片传动连接，调节挡片的偏转角度。当溅射阴极在RB‑SiC基底...
- 王笑夷刘震王延超杨海贵刘海张建王海峰高劲松
- 一种微结构硅基材料及其制作方法、半导体器件
- 本发明提供一种微结构硅基材料及其制作方法、半导体器件，制作方法包括提供硅片及微球溶液；将微球溶液采用自组装方式制作为微球模板；将微球模板转移至硅片表面，进行退火热处理；以微球作为掩膜，并采用反应离子束刻蚀工艺刻蚀硅片，再...
- 杨海贵李强高劲松刘小翼王延超李资政王笑夷
- 文献传递
- 降低微结构硅材料上金半接触电阻的方法及微结构硅材料
- 本发明涉及光电探测技术领域，具体公开一种降低微结构硅材料上金半接触电阻的方法及微结构硅材料。本发明的方法包括化学清洗、反应离子刻蚀处理、热退火处理、化学清洗、电极制备以及金属化热处理等步骤。本发明的方法工艺复杂度低，中间...
- 王延超王稞杨海贵王笑夷高劲松
- 文献传递
- 一种均匀镀膜方法、镀膜设备及计算机可读存储介质
- 本发明公开了一种均匀镀膜方法、镀膜设备及计算机可读存储介质，该均匀镀膜方法包括以下步骤：(1)，根据待沉积光学元件的面形确定沉积源的第一沉积函数分布特性；(2)，根据待沉积光学元件的面形和沉积源的第一沉积函数分布特性确定...
- 王延超刘震杨海贵高劲松王笑夷
- 文献传递
- 一种阵列式窄带滤光片及其制备方法
- 本发明涉及一种阵列式窄带滤光片，包括基底和相互杂化嵌套在基底上的第一光栅和第二光栅，第一光栅和第二光栅构成等离激元复合光栅，等离激元复合光栅周期为第一光栅和第二光栅的宽度之和；第一光栅沿着基底由下而上依次包括底部金属层、...
- 高劲松高劲柏王笑夷杨海贵刘海王延超
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- RB-SiC基底表面改性层的制备装置及方法
- 本发明涉及一种RB‑SiC基底表面改性层的制备装置及方法，制备装置包括挡片和驱动件，挡片安装在溅射阴极和RB‑SiC基底之间，并跟随溅射阴极同步移动；驱动件与挡片传动连接，调节挡片的偏转角度。当溅射阴极在RB‑SiC基底...
- 王笑夷刘震王延超杨海贵刘海张建王海峰高劲松
- 一种近红外增强型硅基四象限光电探测器及其制备方法
- 本发明涉及光电探测技术领域，具体公开一种近红外增强型硅基四象限光电探测器及其制备方法。本发明的四象限光电探测器的由4个完全相同的上下表面都具有锥形微结构的PIN结构单元组成，PIN结构包括作为I型层的本征硅衬底，上表面具...
- 王延超王稞杨海贵王笑夷高劲松
- 文献传递
- 大口径反射镜高反射膜研究进展被引量：8
- 2016年
- 大口径反射镜是大型反射式光学系统中关键的光学元件,在工作波段的反射率直接决定了光学系统的性能。随着地基、天基观测设备的发展,对大口径反射镜高反射膜提出了更宽的工作波段、更高的反射率、更好的环境适应性等要求。针对这些挑战,各种新的膜系结构、新的镀制方法、新的膜层材料纷纷出现,满足了大口径反射镜高反射膜的各种需求。本文对近些年国内外的大口径反射镜高反射膜研究进展予以综述,并预测大口径反射镜高反膜制备的技术趋势将由铝反射膜向银反射膜、由热蒸发向磁控溅射发展。
- 孙梦至王彤彤王延超刘震刘海王笑夷杨海贵高劲松
- 关键词：大口径反射镜高反射膜环境适应性
