蔡金勇 作品数:19 被引量:5 H指数:2 供职机构: 电子科技大学 更多>> 发文基金: 国家自然科学基金 中国博士后科学基金 教育部“新世纪优秀人才支持计划” 更多>> 相关领域: 电子电信 更多>>
一种SOI基PMOSFET功率器件 一种SOI基PMOSFET功率器件,属于功率半导体器件技术领域。本发明提供的SOI基PMOSFET功率器件采用N型SOI基,便于和N沟道功率器件相集成;同时,其漂移区是在SOI基的N型SOI半导体层表面注入P型阱区所形成... 罗小蓉 罗尹春 周坤 范叶 王骁玮 范远航 蔡金勇 张波文献传递 新型AlGaN/GaN增强型HEMT与SBD的研究 氮化镓(GaN)材料具有宽禁带、高临界击穿电场和高电子饱和速度等优点,尤其是AlGaN/GaN异质结具有强极化效应,由此产生的高浓度二维电子气(2DEG)赋予了AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)导通损耗低和... 蔡金勇关键词:氮化镓 高电子迁移率晶体管 复合沟道 耐压特性 文献传递 一种双栅功率MOSFET器件 一种双栅功率MOSFET器件,属于半导体功率器件技术领域。本发明在普通双栅LDMOS器件的基础上,通过将与漏极金属相连的漏极接触区向有源层下方延伸,形成纵向漏极接触区(12a),并在有源层和衬底之间引入一层与纵向漏极接触... 罗小蓉 周坤 姚国亮 蒋永恒 王沛 王琦 罗尹春 蔡金勇 范叶 范远航 王骁玮文献传递 高k介质电导增强SOI LDMOS机理与优化设计 被引量:3 2013年 本文提出一种高k介质电导增强SOI LDMOS新结构(HK CE SOI LDMOS),并研究其机理.HK CE SOI LDMOS的特征是在漂移区两侧引入高k介质,反向阻断时,高k介质对漂移区进行自适应辅助耗尽,实现漂移区三维RESURF效应并调制电场,因而提高器件耐压和漂移区浓度并降低导通电阻.借助三维仿真研究耐压、比导通电阻与器件结构参数之间的关系.结果表明,HK CE SOI LDMOS与常规超结SOI LDMOS相比,耐压提高16%—18%,同时比导通电阻降低13%—20%,且缓解了由衬底辅助耗尽效应带来的电荷非平衡问题. 王骁玮 罗小蓉 尹超 范远航 周坤 范叶 蔡金勇 罗尹春 张波 李肇基关键词:绝缘体上硅 比导通电阻 一种用于GaN基HEMT器件的自适应偏置场板 本发明属于半导体技术领域,具体涉及到一种用于GaN基HEMT器件的自适应偏置场板。本发明的方案采用带偏置电压的金属场板,阻断状态,场板的偏置电压取自于同一衬底材料上的辅助二极管的耗尽的漂移区,二极管的阳极和阴极分别与HE... 罗小蓉 熊佳云 杨超 魏杰 蔡金勇 张波文献传递 一种横向SOI功率半导体器件 一种横向SOI功率半导体器件,属于功率半导体器件技术领域。器件元胞结构包括衬底、绝缘介质层及绝缘介质层上方的器件有源层,器件有源层包括源区、漏区、栅和漂移区;其中源区和漏区之间的漂移区由两个平行于器件横向方向的第一半导体... 罗小蓉 王骁玮 范叶 范远航 尹超 魏杰 蔡金勇 周坤 张彦辉 张波 李肇基文献传递 一种槽型半导体功率器件 本发明公开了一种槽型半导体功率器件,涉及槽型半导体功率器件技术领域,包括衬底层和有源层,所述有源层中形成有槽栅,槽栅纵向至少伸入到有源层中;在体接触区和漏区之间形成有阶梯型的介质槽,阶梯型的介质槽宽度较大的那一端更接近衬... 罗小蓉 王沛 范叶 蔡金勇 王琦 蒋永恒 周坤 王骁玮 范远航 魏杰 罗尹春文献传递 一种横向SOI功率半导体器件 一种横向SOI功率半导体器件,属于功率半导体器件技术领域。器件元胞结构包括衬底、绝缘介质层及绝缘介质层上方的器件有源层,器件有源层包括源区、漏区、栅和漂移区;其中源区和漏区之间的漂移区由两个平行于器件横向方向的第一半导体... 罗小蓉 王骁玮 范叶 范远航 尹超 魏杰 蔡金勇 周坤 张彦辉 张波 李肇基文献传递 槽栅半导体功率器件 本发明涉及半导体技术。本发明解决了现有半导体器件在介质槽相对大间距、小密度情况下无法发挥高K介质作用问题,提供了一种槽栅半导体功率器件,其技术方案可概括为:槽栅半导体功率器件,其在半导体漂移区左右两侧增加了两个高K介质区... 罗小蓉 蒋永恒 蔡金勇 范叶 王沛 王骁伟 周坤 王琦 罗尹春 张波文献传递 纵向功率半导体器件的制造方法 本发明涉及半导体技术。本发明解决了现有具有槽栅超结的半导体功率器件的制造工艺难度较大的问题,提供了一种纵向功率半导体器件的制造方法,其技术方案可概括为:首先外延形成第一半导体区,在其顶部生长氧化层及淀积掩蔽层,并进行光刻... 罗小蓉 周坤 范叶 范远航 蒋永恒 王沛 王骁玮 罗尹春 蔡金勇 张波文献传递