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王坤鹏

作品数:5 被引量:6H指数:1
供职机构:太原理工大学材料科学与工程学院新材料界面科学与工程教育部和山西省重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇气相沉积
  • 5篇化学气相
  • 5篇化学气相沉积
  • 3篇形貌
  • 3篇气相
  • 3篇气相沉积法
  • 3篇光致
  • 3篇光致发光
  • 3篇发光
  • 2篇纳米
  • 2篇化学气相沉积...
  • 2篇GAN
  • 2篇ZNS
  • 1篇低温化学
  • 1篇电学
  • 1篇荧光粉
  • 1篇微米
  • 1篇微米棒
  • 1篇微纳米结构
  • 1篇温度

机构

  • 5篇太原理工大学

作者

  • 5篇王坤鹏
  • 4篇许并社
  • 4篇翟化松
  • 3篇翟光美
  • 2篇余春燕
  • 2篇章海霞
  • 2篇董海亮
  • 2篇姜武
  • 1篇高昂

传媒

  • 2篇无机化学学报
  • 1篇高等学校化学...
  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 3篇2014
  • 2篇2013
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
N_2流量对GaN的形貌及光学和电学性能的影响被引量:1
2013年
采用化学气相沉积法(CVD)在Si(100)衬底上以Ni为催化剂,金属Ga和NH3为原料合成了GaN微纳米结构,并研究了N2流量对产物GaN的形貌及光学和电学性能的影响。利用场发射扫描电子显微镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X射线衍射仪(XRD)、Xray能谱仪(EDS)、光致发光谱(PL)和霍尔效应测试仪(HMS-3000)等测试手段对样品的形貌、结构、成分、光学和电学性能进行了分析。结果表明,随着N2流量的增加,产物GaN的形貌发生了由微米棒到蠕虫状线再到光滑纳米线的转变;生成的GaN均为六方纤锌矿结构;样品均表现出383 nm的近带边紫外发射峰和470 nm左右的蓝光发射峰;所有样品均为p型;并对产物GaN的形貌转变机理进行了分析。
翟化松王坤鹏余春燕翟光美董海亮许并社
关键词:GAN纳米线化学气相沉积
Mn^(2+)掺杂对低温生长ZnS的形貌及光致发光性能的影响被引量:3
2013年
以Zn粉和S粉为原料,Au纳米颗粒为催化剂,采用低温(450℃)化学气相沉积法(CVD),在Si(100)衬底上制备了未掺杂和Mn2+掺杂的ZnS微纳米结构.利用X射线衍射仪(XRD)、能量弥散X射线谱(EDS)、场发射扫描电子显微镜(SEM)和光致发光光谱(PL)等测试手段对样品的结构、成分、形貌和发光性能进行了分析.结果表明,所得ZnS样品均为六方纤锌矿结构,未掺杂的ZnS为微纳米球,在波长为450和463 nm处有2个发光强度较大的蓝光峰;Mn2+掺杂ZnS为纳米线,在波长479和587 nm处分别有1个微弱的蓝光峰和1个强度相对较大的红光峰.此外,还对ZnS微纳米结构的形成过程进行了探讨,并提出了可能的形成机理.
王坤鹏翟化松章海霞翟光美董海亮许并社
关键词:光致发光化学气相沉积法
温度对Ga掺杂ZnS纳米结构的形貌及光致发光性能的影响被引量:1
2014年
分别以Zn粉和S粉为原材料,Ga为掺杂剂,Au纳米颗粒为催化剂,采用低温化学气相沉积法(CVD),在Si(100)衬底上制备了Ga掺杂的ZnS纳米结构。利用X射线衍射仪(XRD)、能量弥散X-ray谱(EDS)、场发射扫描电子显微镜(SEM)和光致发光光谱(PL)等测试手段对样品的结构、成分、形貌和发光性能进行了分析。结果表明:随着温度的升高(450—550℃),Ga掺杂ZnS纳米结构的形貌发生了从蠕虫状纳米线到光滑纳米线再到纳米棒的演变,所制备的Ga掺杂的ZnS纳米结构均为六方纤锌矿结构,分别在波长为336nm和675nm处存在一个较强的近带边紫外发射峰和一个Ga掺杂引起的微弱红光峰,而其它发光峰均是缺陷引起的。此外,本文还对Ga掺杂ZnS纳米结构的形成过程进行了探讨,并提出了可能的形成机理。
王坤鹏章海霞翟光美姜武翟化松许并社
关键词:光致发光化学气相沉积法
ZnS及其掺杂材料的低温化学气相沉积法制备与表征
ZnS是Ⅱ-Ⅵ族化合物中一种重要的直接宽禁带半导体材料,室温下其禁带宽度是3.7 eV,具有十分优良的光电性能,广泛应用于场发射器、激光器、发光二极管和传感器等光电器件。掺杂的ZnS材料具有更高的发光效率和范围更广的发射...
王坤鹏
关键词:光致发光化学气相沉积荧光粉
文献传递
不同金属缓冲层对GaN薄膜的光学及电学性能的影响被引量:1
2014年
本文以金属Ga和NH3为原料,Al、Ni和Fe为金属缓冲层,采用化学气相沉积法(CVD)在Si(100)衬底上合成了GaN微米薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能量弥散X射线谱(EDS)、光致发光光谱(PL)和霍尔效应测试仪(HMS-3000)等对GaN微米薄膜进行表征。结果表明,所有样品均为六方纤锌矿结构;样品均出现了很强的近带边紫外发射峰和半峰宽较大的中心波长为672 nm红光发射峰;不同样品的电学性能差异较大。最后对合成的GaN微米薄膜的可能形成机理进行了简单分析。
翟化松余春燕高昂姜武王坤鹏许并社
关键词:化学气相沉积
共1页<1>
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