张云飞
- 作品数：94 被引量：70H指数：5
- 供职机构：中国工程物理研究院更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项国家自然科学基金国防基础科研计划更多>>
- 相关领域：机械工程金属学及工艺自动化与计算机技术电子电信更多>>
- 基于双磨头的磁流变抛光机床与工艺研究被引量：2
- 2014年
- 针对传统单磨头磁流变抛光技术的不足,提出了一种新的双磨头磁流变抛光方法,并研制了一台八轴数控双磨头磁流变抛光机,具备了大口径平面、非球面及连续位相板的超精密、高效率加工能力。分别研究了大、小磨头材料去除特性及面形修正能力,不仅获得了稳定、有效的大、小抛光斑,而且获得了超精的大、小平面工艺样件。50mm小平面经小磨头一次连续抛光,在45mm内其面形精度PV由0.21λ收敛至0.08λ、RMS由0.053λ收敛至0.015λ;430mm×430mm大平面经大磨头3次迭代抛光,在410mm×410mm内其面形精度PV由0.4λ收敛至0.1λ、RMS由0.068λ收敛至0.013λ。由此表明,所研制的双磨头磁流变抛光机床具有较好的材料去除特性和较强的面形修形能力。
- 黄文张云飞郑永成罗清侯晶袁志刚
- 一种双摆轴式五轴磁流变机床抛光点位置标定方法
- 本发明公开了一种双摆轴式五轴磁流变机床抛光点位置标定方法，包括：在机床工作台上安装标准方形工件并调整其姿态；摆动机床A轴，采用第一测头测量工件侧面与上表面的点位信息；计算第一测头与机床A轴轴线的第一结构参数并更新；采斑计...
- 周涛张云飞曾靖超郑永成黄文陈立张建飞李凯隆
- 一种狭缝式磁流变抛光液回收器
- 本发明公开了一种狭缝式磁流变抛光液回收器，属于精密光学抛光加工技术领域，包括回收罩，回收罩用于收集由磁流变抛光轮送来的磁流变抛光液，回收罩形成有回收腔，回收罩内表面设置有用于磁变的磁体层，磁体层与回收罩之间设置有用于屏蔽...
- 李建曹鹏辉周涛李强郑永成张云飞郑越青
- 文献传递
- 酸碱度对磁流变抛光去除作用的调节机制被引量：6
- 2019年
- 随着磁流变抛光技术在超精密加工领域的应用需求不断增长,提高该技术的抛光效率成为一种必然趋势。本文从研究磁流变抛光液料浆的性质出发,建立了以pH值调节为手段改善抛光液性能的实验方法。采用透射电镜、粒度分析,黏度测试和Zeta电位测试等实验分析表征了抛光颗粒的分散行为及料浆的流变特性,并对抛光料浆特性进行了研究和优化。结果表明当pH值为12时,抛光料浆具有绝对值最大的Zeta电位(33.28 mV)和最小的颗粒粒径(260 nm),获得了抛光颗粒分散均匀、悬浮性能稳定的料浆。使用该料浆抛光液与初始抛光液在相同工艺条件下对熔石英进行抛光。实验结果表明,在未明显恶化表面粗糙度的前提下,该抛光液的峰去除效率和体去除效率分别提升87%和66%,获得了良好、高效的去除效果。
- 李晓媛叶敏恒刘佳保田东张云飞董会王超
- 关键词：磁流变抛光酸碱度粗糙度熔石英
- 一种基于弹性体磁致固态流变效应的抛光装置
- 本实用新型公开了一种基于弹性体磁致固态流变效应的抛光装置，包括抛光盘，所述抛光盘的下端面向上凹陷形成第一凹槽，所述第一凹槽内设置有永磁铁，所述抛光盘的上端面与主轴连接，所述抛光盘的下端设置有调整盘，所述调整盘上设置有与元...
- 李凯隆黄文张云飞张建飞陈立郑永成周涛田东樊炜陈玉川
- 文献传递
- 基于力反馈的机器人磁流变抛光法向定位执行器及方法
- 本发明公开了基于力反馈的机器人磁流变抛光法向定位执行器及方法，包括步进电机、滚珠丝杆滑台、联接座、拉力传感器、抛光轮支撑座、抛光轮、伺服电机座、磁流变喷头、伺服电机、传感信号调理模块、控制核心模块、计算机；抛光轮支撑座下...
- 李凯隆张林张云飞张春雷黄文陈立郑永成张建飞周涛
- 磁流变加工驻留时间对中频误差的影响被引量：2
- 2015年
- 针对磁流变抛光过程中的中频误差的控制,进行了驻留时间与中频误差影响关系的研究。对基于矩阵法得出的驻留时间进行分析,驻留时间矩阵沿抛光头的进给方向的起伏波动性,反映在抛光过程中速度的不连续性,会引入一定的中频误差。提出通过滤波算法使驻留时间沿抛光轮进给方向更加平滑,即相邻两点的速度更加接近,抛光轮只需要很小的加速度和很小的时间内即可完成整个加速过程,从而降低这种速度的波动性带来的误差。通过计算机仿真和实验验证,给驻留时间一个很小的扰动,会使残差的功率谱密度(PSD)曲线发散,而滤波后的驻留时间算法在"不失真"的情况下,在一定程度上抑制了中频误差。
- 贾阳吉方张云飞黄文
- 关键词：磁流变功率谱密度滤波
- KDP晶体磁流变抛光后的清洗方法
- 本发明提供了一种KDP晶体磁流变抛光后的清洗方法，包括以下步骤：（1）对抛光后的KDP晶体进行射流冲洗；（2）对射流冲洗后的KDP晶体进行复合超声频率组合溶剂清洗；（3）在步骤（2）中，组合清洗剂包括胺类和醇类清洗剂；（...
- 王超王宝瑞吉方黄文何建国李晓媛汤光平张云飞魏齐龙罗清郑永成朱元庆
- 文献传递
- 一种锥面表面形貌误差评价方法
- 本发明公开了一种锥面表面形貌误差评价方法，包括以下步骤：利用坐标测量系统获取锥面表面所有测量点坐标数据以及单位法向；根据测量点坐标及其单位法向求解测量点云的平均曲率；优选混合距离权因子，对测量点云与初始锥面进行特征匹配，...
- 樊炜王晓旭杜坤黄文张云飞海阔
- 基于Kahan方法的磁流变抛光凸元件几何特性分析
- 2022年
- 凸光学元件在磁流变抛光区域的几何特性对制造高精度、高表面完整性光学元件有重要影响,凸光学元件曲率、嵌入深度与角度的变化将引起磁流变抛光区域压力场的变化。为了研究凸光学元件不同的曲率、嵌入深度与嵌入角度下抛光区域的压力场,首先通过建立磁流变抛光过程中压力模型,对抛光区域的压力进行分析;其次基于Kahan数值方法建立了多场耦合积分的快速计算方法。最后,计算凸光学元件在不同曲率、嵌入深度及角度下得到磁流变抛光区域压力场分布,研究凸元件在磁流变抛光区域受几何特性影响的工艺规律;得出结论:在磁流变抛光过程中通过改变凸光学元件曲率、相同曲率下的嵌入深度以及角度的情况下,当加工凸元件曲率增大时,磁流变抛光区域压力场会随之增大;当凸元件曲率一定、嵌入深度逐渐变深时,磁流变抛光区域压力场会增大;当凸元件曲率一定、嵌入角度增加时,磁流变抛光区域压力场会随角度先增大再减小。
- 杨航佘娜张云飞黄文贾阳
- 关键词：磁流变抛光压力场
