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余楚迎

作品数:47 被引量:238H指数:9
供职机构:汕头大学理学院物理系更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划广东省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电气工程电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 37篇期刊文章
  • 10篇会议论文

领域

  • 24篇理学
  • 10篇电气工程
  • 9篇电子电信
  • 7篇自动化与计算...
  • 4篇一般工业技术
  • 1篇自然科学总论

主题

  • 18篇多晶
  • 18篇硅薄膜
  • 17篇多晶硅
  • 14篇多晶硅薄膜
  • 6篇非晶硅
  • 5篇等离子体
  • 5篇非晶硅薄膜
  • 4篇气源
  • 4篇晶粒
  • 4篇衬底
  • 4篇衬底温度
  • 4篇H
  • 3篇射频辉光放电
  • 3篇晶化率
  • 3篇晶粒尺寸
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 3篇辉光
  • 3篇辉光放电
  • 3篇

机构

  • 47篇汕头大学
  • 14篇韩山师范学院
  • 2篇北京信息科技...
  • 2篇华南理工大学
  • 1篇广东工业大学
  • 1篇汕头大学医学...
  • 1篇浙江大学

作者

  • 47篇余楚迎
  • 35篇林璇英
  • 24篇林揆训
  • 17篇姚若河
  • 13篇余云鹏
  • 10篇池凌飞
  • 9篇黄锐
  • 8篇黄创君
  • 8篇陈城钊
  • 7篇吴燕丹
  • 7篇刘翠青
  • 7篇邱胜桦
  • 7篇李平
  • 6篇魏俊红
  • 6篇石旺舟
  • 6篇李建忠
  • 5篇吴萍
  • 3篇刘建宾
  • 3篇王照奎
  • 3篇王洪

传媒

  • 13篇汕头大学学报...
  • 11篇功能材料
  • 8篇物理学报
  • 5篇第二届全国金...
  • 2篇材料研究与应...
  • 1篇材料导报
  • 1篇真空
  • 1篇计算机科学

年份

  • 1篇2010
  • 2篇2009
  • 5篇2008
  • 2篇2007
  • 3篇2006
  • 2篇2005
  • 8篇2004
  • 4篇2003
  • 2篇2002
  • 8篇2001
  • 3篇2000
  • 3篇1999
  • 2篇1998
  • 2篇1997
47 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
多晶硅薄膜低温生长中晶粒大小的控制被引量:10
2004年
以SiCl4 H2 为气源 ,用等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)方法低温快速沉积多晶硅薄膜 .实验发现 ,在多晶硅薄膜的生长过程中 ,气相空间各种活性基团的相对浓度是影响晶粒大小的重要因素 ,随功率、H2 SiCl4 流量比的减小和反应室气压的增加 ,晶粒增大 .而各种活性基团的相对浓度依赖于PECVD工艺参数 ,通过工艺参数的改变 ,分析生长过程中空间各种活性基团相对浓度的变化 ,指出“气相结晶”
黄锐林璇英余云鹏林揆训姚若河黄文勇魏俊红王照奎余楚迎
关键词:活性基团晶粒大小等离子体增强化学气相沉积工艺参数PECVD多晶硅薄膜
功能薄膜材料多晶硅的制备及光电特性研究被引量:1
1999年
用等离子体化学气相沉积(PCVD)制备掺杂和本征的a-Si:H薄膜,用固相晶化法制备多晶硅薄膜。通过X射线衍射分析多晶硅的晶粒大小与a-Si:H的沉积条件及退火条件的关系,测量了多晶硅薄膜的室温暗电导率和光能隙,讨论了影响暗电导率和光能隙的因素。
吴萍林旋英姚若河余楚迎
关键词:多晶硅光电特性功能薄膜材料
以SiCl4-H2为气源制备的多晶硅薄膜的结构特性
以SiCl-H为气源,用PECVD方法低温沉积多晶硅薄膜。用Raman散射光谱测试样品的纵向结构特性,发现随着薄膜纵向深度的增加,薄膜中硅晶的颗粒尺度逐渐增大。用扫描电子显微镜观察薄膜表面形貌,发现表面是由许多球形、近球...
林璇英黄创君余运鹏余楚迎林揆训魏俊红黄锐
关键词:多晶硅薄膜低温晶化
文献传递
射频辉光放电等离子体中电子能量的单探针诊断
等离子体化学气相淀积是制备现代功能薄膜的重要工艺.射频辉光放电等离子体的特点是电子能量分布范围较宽.所以诊断和控制等离子体参数,就成为研究薄膜沉积机理的关键性问题.在多种诊断等离子体的方法中,最简单、最方便的方法是Lan...
池凌飞林揆训姚若河林璇英余楚迎余云鹏
关键词:微分电路
文献传递
a-Si:H薄膜固相晶化法制备大晶粒多晶硅薄膜被引量:9
1999年
用等离子体化学气相沉积(PCVD)法制备:a-Si:N薄膜材料(衬底温度20O℃~350℃),用固相晶化法(SPC)获得多晶硅薄膜(退火温度500℃~650℃),用X射线衍射法测得平均晶粒尺寸依赖于退火温度和沉积条件,随着沉积温度的降低需要较高的退火温度,用SEM观测形貌测得平均晶粒大小为1,0~1。
吴萍姚若河林璇英余楚迎
关键词:平均晶粒尺寸多晶硅
用SiCl_4/H_2气源沉积多晶硅薄膜光照稳定性的研究被引量:9
2005年
对以SiH4/H2及SiCl4/H2为源气体、采用等离子体增强化学气相沉积技术制备的非晶硅薄膜和多晶硅薄膜进行了光照稳定性的研究.实验表明,制备的多晶硅薄膜并没有出现非晶硅中的光致衰减现象,其光电导、暗电导在光照过程中没有下降反而有所上升且电导率变化快慢受氢稀释度的制约.多晶硅薄膜的光照稳定性可能来源于高的晶化度及Cl元素的存在.
祝祖送林璇英余云鹏林揆训邱桂明黄锐余楚迎
关键词:多晶硅薄膜H2气源等离子体增强非晶硅薄膜稀释度
Langmuir单探针诊断射频辉光放电等离子体及其数据处理被引量:50
2001年
Langmuir探针是诊断等离子体参数的重要手段 .报道了在氩气射顿 (13 5 6MHz)辉光放电等离子体中使用调谐单探针进行诊断 ,对探针I V特性曲线的统计噪声进行了数字滤波的光滑化处理 ,而后求二次微商 .在相同的放电条件下 ,使用自行设计的微分电路 ,对探针特性二次微商进行在线测量 .这两种方法得到的二次微商结果能够较好地符合 .
池凌飞林揆训姚若河林璇英余楚迎余云鹏
关键词:LANGMUIR探针微分电路数据处理等离子体
低温制备高质量多晶硅薄膜技术及其应用被引量:29
2001年
多晶硅薄膜是集晶体硅材料和非晶硅氢合金薄膜优点于一体 ,在能源科学、信息科学的微电子技术中有广泛应用的一种新型功能材料。本文综述低温 ( <6 0 0℃ )制备高质量多晶硅薄膜技术的研究进展及其应用 ,着重讨论用等离子体化学气相沉积 (PECVD)硅基薄膜固相晶化制备多晶硅技术及其在薄膜硅太阳能电池上的应用。
黄创君林璇英林揆训余楚迎姚若河
关键词:多晶硅薄膜硅太阳能电池
构建一个大容量用户、安全的电子邮件系统
2005年
提出在Linux系统上以Postfix为SMTP服务器、CYRUS为POP/IMAP服务器、A-PACHE为WEB服务器和MYSQL为后台数据库构建一个支持大量用户的邮件系统的方案,并实现其Web Mail系统.在贝叶斯方法的基础上,设计出一个电子邮件过滤器,并给出实现的系统结构.针对日益泛滥的邮件病毒问题,提出一套可行的病毒防护方案.
余楚迎李建忠
关键词:电子邮件服务器垃圾邮件贝叶斯方法WEBMAIL
等离子体化学气相沉积参量对Ar等离子体电子特性的影响被引量:2
2004年
 采用加热的调谐单探针技术,研究了射频辉光放电Ar等离子体空间电子能量分布函数,电子平均能量和电子密度,并系统分析了等离子体增强化学气相沉积工艺参量对等离子体空间电子特性的影响。
魏俊红林璇英赵韦人池凌飞余云鹏林揆训黄锐王照奎余楚迎
关键词:等离子体化学气相沉积
共5页<12345>
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