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六方晶相三氧化钨纳米线的忆阻性能研究: 存储设备在半导体市场中扮演着很重要角色。随着移动消费电子产品的广泛使用，人们对非挥发性及大容量存储设备的需求越来越迫切。目前，Flash在存储器区域中占绝对优势，占据80％以上的市场份额。但是随着28nm节点的到来，闪存...; 何熊武; 关键词：氧空位

化学气相沉积法制备Sn_2S_3一维纳米结构阵列被引量：4: 2011年; 运用化学气相沉积法(CVD),直接以Sn和S为原料分区加热蒸发,通过控制温度分布、气压、载气流量和金属铅纳米颗粒分布等宏观实验条件,成功制备大面积Sn2S3一维纳米结构阵列.扫描电子显微镜(SEM)图片显示:Sn2S3一维纳米结构的横向尺度在100nm左右,长约几个微米.X射线衍射(XRD)谱显示:所制备样品的晶体结构属于正交晶系,沿[002]方向生长.紫外-可见漫反射谱表明Sn2S3一维纳米结构是带隙为2.0eV的直接带隙半导体.讨论了温度分布和金属铅纳米颗粒对Sn2S3一维纳米结构生长的影响,并指出其生长可能遵循气-固(V-S)生长机理.; 彭跃华周海青刘湘衡何熊武赵丁海阔周伟昌袁华军唐东升; 关键词：一维纳米结构阵列化学气相沉积法

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何熊武