何永华
- 作品数：2 被引量：6H指数：1
- 供职机构：武汉大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：湖北省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术更多>>
- 射频溅射法制备掺铂TiO_2薄膜的基本性质被引量：1
- 2004年
- 用射频反应溅射法制备了掺铂的TiO2薄膜.用X射线衍射仪(XRD),紫外 可见(UV vis)光谱仪,电子扫描显微电镜(SEM)和X光电子能谱分析仪(XPS)对薄膜的基本性质进行了表征.研究结果表明:掺铂可以显著促进锐钛矿相的生长;TiO2薄膜在紫外的吸收边发生红移,其光谱响应范围得到了提高;铂氧化物的分解,促使薄膜表面出现了分散分布的微米尺寸岛状突出物,同时导致单质铂在薄膜表面发生富集.
- 何永华于国萍魏正和曾志锋
- 关键词：射频溅射法二氧化钛薄膜富积表面形貌
- 射频溅射法制备掺杂SnO_2纳米薄膜的研究被引量：5
- 2004年
- 采用射频反应溅射法在氧化处理后的单晶硅基片上制备SnO2纳米薄膜,并在薄膜中掺杂Sb和Pd用于改变薄膜的气敏特性.运用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)对薄膜的结构和表面形貌进行分析.结果表明,SnO2薄膜具有四方金红石结构,适量掺杂对SnO2薄膜结构无影响;薄膜晶粒粒径小于150nm,且粒径随退火温度的升高而增大.采用Debye Scherrer简化公式计算了薄膜晶粒粒径,分析了计算值与SEM观测值之间产生误差的原因.经700℃的温度退火后,掺原子比Pd为2%和Sb为2%的薄膜对酒精气体具有很高的灵敏度.
- 曾志峰于国萍魏正和何永华
- 关键词：射频溅射法掺杂二氧化锡薄膜
